[发明专利]深紫外DUV连续波CW激光及产生DUV CW激光辐射的方法

权利要求书

1.一种深紫外DUV连续波CW激光器，其包括：

基波CW激光，其经配置以产生具有在约1μm与1.1μm之间的对应波长的基波频率；

三次谐波产生器模块，其经配置以使用所述基波频率的第一部分产生三次谐波；五次谐波产生器模块，其包括：

多个光学元件，其形成以所述基波频率的所述对应波长而谐振的腔，所述多个光学元件经配置以操作性地耦合所述三次谐波与所述腔中的所述基波频率的第二部分；以及

第一NLO晶体和第二NLO晶体，其能够操作以设置于所述腔中且共同经配置以通过将所述第二基波频率部分和所述三次谐波组合而产生五次谐波；

其中所述多个光学元件中的第一光学元件包括二向色曲面镜，所述二向色曲面镜经配置以沿着所述腔光学路径反射所述第二基波频率部分并将所述三次谐波传递到所述腔中，使得所述三次谐波与所述第一NLO晶体中的所述第二基波频率部分重叠；且

其中所述五次谐波产生器模块进一步包括经配置以将所述三次谐波聚焦在所述第一NLO晶体内的一个或多个透镜。

2.根据权利要求1所述的激光器，其中形成所述腔的所述多个光学元件中的第二光学元件包括输入耦合器，且其中所述五次谐波产生器模块进一步包括模式匹配透镜，所述模式匹配透镜经配置以聚焦并经由所述输入耦合器而耦合所述腔中的所述第二基波频率部分。

3.根据权利要求1所述的激光器，其中所述第一NLO晶体经配置以通过合并所述第二基波频率部分以及所述三次谐波而产生四次谐波。

4.根据权利要求3所述的激光器，其中所述五次谐波产生器模块进一步包括设置于所述第一NLO晶体和所述第二NLO晶体之间的所述腔光学路径中的一个或多个第二透镜，且经配置以聚焦所述第二基波频率部分的未耗尽部分以及所述第二NLO晶体内的所述四次谐波，使得所述五次谐波由所述未耗尽的基波频率部分以及所述四次谐波的频率总和产生。

5.根据权利要求4所述的激光器，其中所述一个或多个第二透镜包括一个或多个消色差透镜。

6.根据权利要求1所述的激光器，其中所述第一NLO晶体包括CLBO、CBO、LBO、LB4以及BBO中的一者。

7.根据权利要求1所述的激光器，其中所述第二NLO晶体包括CLBO、LB4以及BBO中的一者。

8.一种深紫外DUV连续波CW激光器，其包括：

基波CW激光，其经配置以产生具有在约1μm与1.1μm之间的对应波长的基波频率；

三次谐波产生器模块，其经配置以使用所述基波频率的第一部分产生三次谐波；五次谐波产生器模块，其包括：

多个光学元件，其形成以所述基波频率的所述对应波长而谐振的腔，所述多个光学元件经配置以操作性地耦合所述三次谐波以及所述腔中的所述基波频率的第二部分；以及

第一NLO晶体和第二NLO晶体，其能够操作以设置于所述腔中且共同经配置以通过将所述第二基波频率部分和所述三次谐波组合而产生五次谐波；

其中所述五次谐波产生器模块进一步包括第一分束器，所述第一分束器能够操作以设置于所述腔光学路径中且经配置以将穿过所述第一NLO晶体的任何未耗尽的三次谐波转移出所述腔。