[发明专利]一种散热器底座及散热器在审

专利信息
申请号: 202210039348.6 申请日: 2022-01-13
公开(公告)号: CN114327002A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 赵党生;李焱;娄耀郏;李恒;夏春秋;丁奕嘉;陆游 申请(专利权)人: 北京市鑫全盛科技有限公司
主分类号: G06F1/20 分类号: G06F1/20
代理公司: 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 代理人: 郭卫芹
地址: 100095 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 散热器 底座
【权利要求书】:

1.一种散热器底座,包括底座本体,所述底座本体的底部具有至少一个凸起结构,且所述底座本体的底部与CPU的顶部相抵接,其特征在于,每个所述凸起结构均包括具有凸起的平缓区域和位于凸起的平缓区域外围的坡度区域;

所述凸起结构的平缓区域与所述CPU的顶部高热流密度区域相抵接,与所述坡度区域相比,形成具有相对高压强且压强相对稳定的区域。

2.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域位于所述凸起结构的内部区域,且所述坡度区域投影位于所述平缓区域投影的两侧、三侧或四周。

3.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的所述平缓区域的几何中心点高度大于或等于该区域边缘的高度,且通过该几何中心点任一剖面的水平方向任意一侧轮廓线上,所述平缓区域内任一局部范围单位水平距离所对应的垂直高度差值的绝对值小于相应所述坡度区域任一局部范围单位水平距离所对应的垂直高度差值的绝对值。

4.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域中心与所述CPU的顶部高热流密度区域中心相抵接,与所述坡度区域相比,形成具有相对高压强且压强相对稳定的区域。

5.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域中心与所述CPU的顶部高热流密度区域中心的相近位置相抵接,与所述坡度区域相比,形成具有相对高压强且压强相对稳定的区域。

6.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的投影面积小于所述CPU的顶部面积。

7.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的投影形态包括:圆形、椭圆形或多边形。

8.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域部分的剖面轮廓线包括:直线、弧线或折线。

9.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的面积为20mm2至254mm2

10.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的面积为20mm2至177mm2

11.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的面积为20mm2至113mm2

12.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的面积为20mm2至79mm2

13.如权利要求1所述的散热器底座,其特征在于,所述凸起结构的平缓区域的面积为20mm2至50mm2

14.一种散热器,用以对CPU进行散热,所述散热器包括底座本体,所述底座本体的底部具有至少一个凸起结构,且所述底座本体的底部与CPU的顶部相抵接,其特征在于,每个所述凸起结构均包括具有凸起的平缓区域和位于凸起的平缓区域外围的坡度区域;

所述凸起结构的平缓区域与所述CPU的顶部高热流密度区域相抵接,与所述坡度区域相比,形成具有相对高压强且压强相对稳定的区域。

15.如权利要求14所述的散热器,其特征在于,所述凸起结构的所述平缓区域位于所述凸起结构的内部区域,坡度区域投影位于平缓区域投影的两侧、三侧或四周。

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