[发明专利]放射性同位素的生产

权利要求书

1.一种放射性同位素生产设备，包括：

电子源，布置成提供电子束，所述电子源包括电子注入器和电子加速器；

目标支撑结构，配置成保持目标；以及

第一电子束分布设备和第二电子束分布设备，所述第一电子束分布设备和第二电子束分布设备一同被布置成在所述目标的表面上方扫描所述电子束。

2.如权利要求1所述的放射性同位素生产设备，其中所述第一电子束分布设备是被布置成朝向所述第二电子束分布设备将所述电子束扫掠通过一预定角度的偏转器。

3.如权利要求1或2所述的放射性同位素生产设备，其中所述第二电子束分布设备是偏转器和透镜中的一个。

4.如权利要求1至3中任一项所述的放射性同位素生产设备，进一步包括分束器，布置成沿第一路径朝向所述目标的第一侧引导所述电子束的第一部分且沿第二路径朝向所述目标的第二侧引导所述电子束的第二部分。

5.如权利要求4所述的放射性同位素生产设备，其中所述第一束分布设备和所述第二束分布设备沿所述第一路径设置。

6.如权利要求5所述的放射性同位素生产设备，进一步包括第三束分布设备和第四束分布设备，所述第三束分布设备和所述第四束分布设备一同被布置成在所述目标的另一表面上方扫描所述电子束，并且所述第三束分布设备和所述第四束分布设备沿所述第二路径设置。

7.如权利要求1至6中任一项所述的放射性同位素生产设备，其中所述目标包括电子目标和光子目标；并且

其中所述电子目标被布置成从所述第二电子束分布设备接收所述电子束且朝向所述光子目标发射光子。

8.如权利要求7所述的放射性同位素生产设备，当从属于权利要求6时，其中所述电子目标包括被布置成接收来自所述第一分布设备和所述第二分布设备的所述电子束的所述第一部分的第一部分以及被布置成接收来自所述第三分布设备和所述第四分布设备是所述电子束的所述第二部分的第二部分。