[发明专利]一种新型微型电机磁环磁瓦塑形装置有效
申请号: | 202210023019.2 | 申请日: | 2022-01-10 |
公开(公告)号: | CN114161280B | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
发明(设计)人: | 王昭钰;曹建军 | 申请(专利权)人: | 海安县巨力磁材有限责任公司 |
主分类号: | B24B21/00 | 分类号: | B24B21/00;B24B21/18;B24B47/00;H02K15/00 |
代理公司: | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人: | 丁桂红 |
地址: | 226600 江苏省南通*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 微型 电机 磁环磁瓦塑形 装置 | ||
本发明公开了一种新型微型电机磁环磁瓦塑形装置,包括底座,所述底座的顶部开设有定位槽,所述定位槽的内侧嵌合安装有嵌合块,所述嵌合块的顶部安装有下模具,所述底座的顶部安装有支撑主体,且支撑主体位于下模具的后方,所述支撑主体的顶部安装有支撑台,所述支撑台的内侧贯穿安装有伸缩杆;所述底座的一侧安装有底板,所述底板的顶部安装有机架,所述机架的顶部安装有支撑杆,所述支撑杆的顶部安装有支撑板。本发明通过安装有顶块,伸缩杆缩短带动上压块向上移动,使得上压块与下模具分离,然后顶杆伸长带动顶块上升,顶块将成型的工件顶起,方便脱膜的同时便于工人拿取。
技术领域
本发明涉及磁瓦加工技术领域,具体为一种新型微型电机磁环磁瓦塑形装置。
背景技术
磁瓦就是微型电机中的一种永磁体,结构形状为瓦状磁铁,在磁瓦生产的过程中,需要对工件的形状进行塑造,使得磁瓦可以与电机的内壳紧密贴合。
现有技术中磁瓦塑形装置存在的缺陷是:
1、对比文件CN213258701U公开了一种适用于磁瓦加工的环保打磨设备,“包括主体框架、打磨部分、冷却水智能循环部分、碎渣快速分离部分、机械智能冷却部分、能源再利用部分和智能控制部分;所述主体框架包括底座、中层框架和上层防护框架。所述底座为一长方体中空容器一,底座上方设置中层框架。可实现打磨过程的易观察、易检修,明显减少噪音;此外,实现了冷却水高效循环利用,显著降低了对冷却水总量的需求;打磨流程同步实现机械降温和磁胚干燥,显著节约能源”,现有的装置其内部缺少脱模结构,方便工人取料。
2、对比文件CN214052816U公开了一种可批量自动清洁的磁瓦加工装置,“包括底座、固定板和机箱,所述底座的内部右侧安装有第一电机,且第一电机的输出端固定连接有第一轴杆,所述第一轴杆的外侧连接有连接板,且连接板的内部左侧贯穿安装有固定块,并且固定块的底部固定连接有第一弹簧,所述底座的顶部安装有传送装置,所述固定板固定连接于底座的顶部下方,且固定板的内部设置有固定柱,所述固定板的右侧后方连接有挡板,且固定板的后方左侧连接有连接架,所述连接架的右侧贯穿安装有固定架。该可批量自动清洁的磁瓦加工装置,不仅能对磁瓦进行自动清洁,而且能批量对磁瓦进行自动输送,同时能对磁瓦进行烘干”,现有的装置不方便工人进行更换结构,无法满足生产不同规格产品的需求。
3、对比文件CN212553249U公开了一种磁瓦加工用抛光设备,“包括底座,所述底座的上表面固定连接有支撑柱,所述支撑柱的底面固定连接有相对称的电动推杆,两个所述电动推杆的输出端共同固定连接有固定环,所述固定环的内部固定连接有旋转电机,所述旋转电机的输出端通过减速器固定连接有抛光盘,所述底座的上方设有移动箱,所述移动箱的内部设有连接板。该磁瓦加工用抛光设备,通过连接板设置于移动箱的内部,利用滚轮与滑槽的配合,能够通过移动把手拉动移动箱进行移动,从而调整磁瓦的位置,方便进行抛光,同时由于支撑柱和连接板通过轴承进行连接,能够使连接板在轴承的作用下进行转动,进而能够使磁瓦位于不同的位置,实现多位置的抛光”,该装置缺少无法判断工件的规格,不方便装置对工件进行加工。
4、对比文件CN206795560U公开了一种用于磁瓦加工生产线的自动连续给料装置,“包括机架、输送装置、传动装置、推板装置和传送带装置。所述机架的上方设有水平布置输送装置,所述输送装置设有盛瓦板。所述机架的一侧侧面连接传动装置,所述机架的长度方向的一端端面上连接推板装置,所述机架的另一侧侧面,且位于推板装置的端部位置的下方设有传送带装置,所述推板装置设有推瓦板。所述传动装置驱动盛瓦板向推板装置方向运动,当盛瓦板运动到推板装置下侧位置时,所述推瓦板缓慢匀速地将盛瓦板上的磁瓦推向传送带装置,所述传送带装置将磁瓦运送到预定的加工位置。本实用新型实现磁瓦加工的连续自动给料,提高了生产效率”,现有的结构缺少位置调节结构,装置无法对设备的位置进行调节使得装置的加工无法满足需求。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新型微型电机磁环磁瓦塑形装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
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