[发明专利]延迟时间测量方法和系统在审

专利信息
申请号: 202180062283.0 申请日: 2021-09-08
公开(公告)号: CN116057392A 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: B·H·高利;J·F·M·范伦斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G01R31/305 分类号: G01R31/305
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 张宁;杨飞
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 延迟时间 测量方法 系统
【权利要求书】:

1.一种存储指令的计算机可读介质,所述指令当由计算机执行时,使得所述计算机执行以下操作:

-通过带电粒子射束的脉冲来辐照线路,其中所述带电粒子射束的所述脉冲的脉冲重复频率是变化的;

-对于所述脉冲重复频率中的每个脉冲重复频率,响应于通过所述带电粒子射束的所述脉冲以相应脉冲重复频率辐照所述线路,测量次级带电粒子发射;并且

-响应于所述脉冲重复频率的变化,基于所述次级带电粒子发射来导出所述线路的延迟时间。

2.根据权利要求1所述的计算机可读介质,其中所述脉冲重复在脉冲重复频率范围内发生变化,所述脉冲重复频率范围包括由1除以所述线路的所述延迟时间而定义的频率。

3.根据权利要求1所述的计算机可读介质,其中所述线路的所述延迟时间被确定为所述次级带电粒子发射中响应于所述脉冲重复频率的变化的高频滚降点。

4.根据权利要求1所述的计算机可读介质,其中所述脉冲的脉冲宽度小于由所述脉冲重复频率确定的脉冲重复时间。

5.根据权利要求1所述的计算机可读介质,其中对于每个脉冲重复频率,由至少两个后续脉冲进行的所述线路的辐照被重复,利用每次重复,响应于所述至少两个后续脉冲的所述次级带电粒子发射被测量,并且对于每个重复频率测量的所述次级带电粒子发射被平均。

6.根据权利要求5所述的计算机可读介质,其中所述线路的所述延迟时间根据经平均的所述次级带电粒子发射与所述脉冲重复频率之间的关系而被导出。

7.一种用于测量信号在电路结构中的线路中的传播延迟时间的系统,所述系统包括:

-带电粒子射束源,被配置为通过带电粒子射束的脉冲来辐照所述线路,其中所述带电粒子射束的所述脉冲的脉冲重复频率是变化的;

-次级带电粒子发射检测器,用于对于所述脉冲重复频率中的每个脉冲重复频率,响应于通过所述带电粒子射束的所述脉冲以相应脉冲重复频率辐照所述线路,测量次级带电粒子发射;以及

-数据处理设备,被配置为响应于所述脉冲重复频率的所述变化,基于所述次级带电粒子发射来导出所述线路的所述延迟时间。

8.根据权利要求7所述的系统,其中所述带电粒子射束源被配置为使所述脉冲重复在脉冲重复频率范围内发生变化,所述脉冲重复频率范围包括由1除以所述线路的所述延迟时间而定义的频率。

9.根据权利要求7所述的系统,其中所述数据处理设备被配置为:将所述线路的所述延迟时间确定为所述次级带电粒子发射中响应于所述脉冲重复频率的所述变化的高频滚降点。

10.根据权利要求7所述的系统,其中所述脉冲的脉冲宽度小于由所述脉冲重复频率确定的脉冲重复时间。

11.根据权利要求7所述的系统,其中所述带电粒子射束被配置为:对于每个脉冲重复频率,重复由至少两个后续脉冲进行所述线路的辐照,所述检测器被配置为:利用每次重复,测量响应于所述至少两个后续脉冲的所述次级带电粒子发射,并且所述数据处理设备被配置为:对在每个重复时间内测量的所述次级带电粒子发射进行平均。

12.根据权利要求11所述的系统,其中所述数据处理设备被配置为:根据经平均的所述次级带电粒子发射的改变导出所述线路的所述延迟时间,经平均的所述次级带电粒子发射随所述带电粒子射束的所述两个后续脉冲之间的所述脉冲重复时间而变化。

13.根据权利要求7所述的系统,其中所述带电粒子射束是电子射束,所述次级带电粒子发射是次级电子发射。

14.根据权利要求7所述的系统,其中所述电路结构是管芯。

15.根据权利要求7所述的系统,其中所述带电粒子射束的所述脉冲将所述线路充电到一电势,所述线路的所述电势影响所述次级带电粒子发射,其中所述数据处理设备被配置为:根据所述线路的所述电势的衰减导出所述线路的所述延迟时间,并且根据所述脉冲重复频率的所述改变对所述次级带电粒子发射的影响导出所述线路的所述电势的所述衰减。

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