[发明专利]磁带装置及磁带装置的工作方法在审
| 申请号: | 202180060528.6 | 申请日: | 2021-04-15 | 
| 公开(公告)号: | CN116134514A | 公开(公告)日: | 2023-05-16 | 
| 发明(设计)人: | 石川廉;村田悠人 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 | 
| 主分类号: | G11B5/584 | 分类号: | G11B5/584 | 
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁带 装置 工作 方法 | ||
一种磁带装置,其具备:磁头,具有作用于在磁带表面形成的磁性层的磁性元件;位置调整致动器,通过使磁头移动来调整磁性元件在表面法线方向上的位置;以及处理器,控制位置调整致动器的动作。
技术领域
本发明的技术涉及一种磁带装置及磁带装置的工作方法。
背景技术
提出了各种磁带装置,其中,使磁头的磁性元件作用于在磁带的表面形成的磁性层,在磁性层记录数据和/或读取记录在磁性层的数据。例如,在日本特开平11-126318号公报中记载了使用压电元件来调整磁性元件在磁带的宽度方向上的位置的磁带装置。
发明内容
发明要解决的技术课题
虽说磁带的表面的磁性层被平坦化,但有数nm~数十nm量级的凹凸。并且,磁带由于引导其行进的导辊的偏心引起的行进时的起伏、对导辊的摩擦引起的振动或者与磁性元件的接触而导致的磁性层被削掉、和/或由于其他某种原因而产生的异物附着于磁头等,在表面的法线方向上会产生数十nm~数μm量级的位置变动。而且,磁性元件也会因在磁性层中配制的研磨剂而磨损,法线方向上的磁性层与磁性元件的位置关系有时会随时间而变化。
这种法线方向上的磁性层与磁性元件的位置关系的变动使数据的记录和/或读取变得不稳定。因此,需要调整磁性元件在法线方向上的位置。日本特开平11-126318号公报中记载了调整磁性元件在磁带的宽度方向上位置,但没有记载调整磁性元件在法线方向上的位置。
本发明的技术所涉及的一个实施方式提供一种能够在磁带表面的法线方向上保持磁性层与磁性元件的位置关系的磁带装置及磁带装置的工作方法。
用于解决技术课题的手段
本发明的磁带装置具备:磁头,具有作用于在磁带表面形成的磁性层的磁性元件;位置调整致动器,通过使磁头移动来调整磁性元件在表面法线方向上的位置;以及处理器,控制位置调整致动器的动作。
优选磁头使磁性元件靠近并作用于磁性层。
优选磁头的宽度小于磁带的宽度。
优选位置调整致动器是压电元件。
优选处理器根据表示磁带的法线方向的变动的变动简档数据(variationprofile data)来控制位置调整致动器的动作。
优选具备隔着磁头配置在磁带的行进方向的两侧的一对支撑部件,并且表面在支撑部件上滑动。
优选在磁性层上形成有记录数据的多条数据带、以及记录有用于使磁头在磁带的宽度方向上移动的伺服控制的多条伺服图案的多条伺服带,磁头具有作为磁性元件的、作用于数据带的数据用元件以及读取伺服图案的伺服图案读取元件。
优选数据用元件包括在磁性层记录数据的数据记录元件、以及读取记录在磁性层的数据的数据读取元件。
本发明的磁带装置的工作方法包括:通过控制位置调整致动器的动作使磁头移动,来调整磁头的磁性元件在磁带表面的法线方向上的位置的步骤;以及使磁性元件作用于在表面形成的磁性层的步骤。
发明效果
根据本发明的技术,可以提供一种能够在磁带表面的法线方向上保持磁性层与磁性元件的位置关系的磁带装置及磁带装置的工作方法。
附图说明
图1是表示磁带装置的一例的图。
图2是磁头附近的放大图。
图3是从磁头和支撑部件侧观察磁带的俯视图。
图4是悬架和磁头的分解立体图。
图5是压电双晶片(piezoelectric bimorph)元件的立体图。
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