[发明专利]用于有机电子器件中的式(I)的有机化合物、包含式(IV)的化合物和至少一种式(IVa)至(IVd)的化合物的组合物、包含所述化合物或组合物的有机半导体层、包括所述有机半导体层的有机电子器件、以及包括所述有机电子器件的显示器件在审
| 申请号: | 202180044230.6 | 申请日: | 2021-06-18 |
| 公开(公告)号: | CN116076169A | 公开(公告)日: | 2023-05-05 |
| 发明(设计)人: | 马克斯·皮特·纽伦;本杰明·舒尔策;雅各布·亚切克·乌达尔奇克;雷吉娜·卢舍蒂尼特兹;托马斯·罗泽诺 | 申请(专利权)人: | 诺瓦尔德股份有限公司 |
| 主分类号: | H10K85/60 | 分类号: | H10K85/60;H10K50/17;H10K50/16;H10K50/15 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 郭国清;宫方斌 |
| 地址: | 德国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 有机 电子器件 中的 有机化合物 包含 iv 化合物 至少 一种 iva ivd 组合 | ||
1.一种式(I)的化合物,
其中A1选自式(II)
X1选自CR1或N;
X2选自CR2或N;
X3选自CR3或N;
X4选自CR4或N;
X5选自CR5或N;
R1和R5(如果存在)独立地选自CN、CF3、卤素、Cl、F、H或D;
R2、R3和R4(如果存在)独立地选自CN、部分氟化或全氟化的C1至C8烷基、卤素、Cl、F、H或D;
其中当R1、R2、R3、R4和R5中的任一个存在时,那么相应X1、X2、X3、X4和X5不是N;
前提是
–R1和R5中的至少一个存在并独立地选自CN或CF3;
A2选自式(III)
其中Ar独立地选自被取代的C6至C18芳基和被取代的C2至C18杂芳基,其中Ar上的取代基独立地选自CN、部分或全氟化的C1至C6烷基、卤素、Cl、F、D;
R'选自Ar、被取代或未被取代的C6至C18芳基或C3至C18杂芳基、部分氟化或全氟化的C1至C8烷基、卤素、F或CN;
其中星号“*”表示结合位置;
其中每个Ar被至少两个CN基团取代;
A3选自式(II)或式(III);并且
A1和A2被不同地选择。
2.根据权利要求1所述的化合物,所述化合物选自式(IV),
其中B1选自式(V),
B3和B5是Ar,以及B2、B4和B6是R'。
3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中所述化合物包括少于九个CN基团。
4.根据权利要求1至3所述的化合物,其中R1和R5均存在并独立地选自CN或CF3。
5.根据权利要求1至4所述的化合物,其中R'选自部分氟化或全氟化的C1至C8烷基、F或CN。
6.根据权利要求1至5所述的化合物,其中Ar包括两个相邻CN基团。
7.一种组合物,所述组合物包含式(IV)的化合物和至少一种式(IVa)至(IVd)的化合物,
8.一种有机半导体层,其中所述有机半导体层包括根据权利要求1至6中的任一项所述的化合物或根据权利要求7所述的组合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺瓦尔德股份有限公司,未经诺瓦尔德股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202180044230.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有过滤器保持器的自动锁定的咖啡机
- 下一篇:食品釉涂层组合物





