[发明专利]声学液滴喷射设备的自动调谐在审
申请号: | 202180037181.3 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN115699248A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 刘畅;T·R·科维 | 申请(专利权)人: | DH科技发展私人贸易有限公司 |
主分类号: | H01J49/00 | 分类号: | H01J49/00;H01J49/04 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 周阳君 |
地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 声学 喷射 设备 自动 调谐 | ||
1.一种使用质谱仪自动计算声学液滴喷射(ADE)设备、开放端口接口(OPI)或离子源设备的至少一个操作参数的最优值的系统,包括:
ADE设备,适于随时间执行样本的一次或多次喷射;
OPI,适于在内管的入口处随时间接收所述一次或多次喷射,将接收到的喷射与溶剂混合以形成一系列样本-溶剂稀释液,并将稀释液的系列转移到内管的出口;
离子源设备,适于接收稀释液的系列并电离稀释液的系列,从而产生离子束;
质谱仪,适于随时间接收离子束并对离子束进行质量分析,从而产生与所述一次或多次喷射对应的强度相对于时间质量峰;以及
处理器,与ADE设备、OPI、离子源设备和质谱仪通信,
对于ADE设备、OPI或离子源设备的至少一个参数的多个参数值中的每个值,将所述至少一个参数设置给每个值,指示ADE设备、OPI、离子源设备和质谱仪为样本产生一个或多个强度相对于时间质量峰,并计算所述一个或多个强度相对于时间质量峰的至少一个特征的特征值,从而产生与所述多个参数值对应的多个特征值,以及
从与所述多个参数值对应的所述多个特征值中计算所述至少一个参数的最优值。
2.如权利要求1所述的系统,其中处理器还将所述至少一个参数设置给最优值,或者其中处理器还将最优值保存在用于样本的存储器设备中。
3.如权利要求1或2中的任一项所述的系统,其中样本包括标准溶液中的标准分析物。
4.如权利要求3所述的系统,
其中ADE设备、OPI或离子源设备的所述至少一个参数包括相对于ADE设备的位置的OPIx轴位置或相对于ADE设备的位置的OPIy轴位置,
其中所述一个或多个强度相对于时间质量峰的所述至少一个特征包括峰高度,以及
其中处理器通过从与所述多个参数值对应的多个特征值中计算产生峰高度的最大值的所述至少一个参数的值来计算所述至少一个参数的最优值。
5.如权利要求3所述的系统,
其中ADE设备、OPI或离子源设备的所述至少一个参数包括在内管的入口处OPI的内管相对于外管的位置,
其中所述一个或多个强度相对于时间质量峰的所述至少一个特征包括峰高度或峰宽度,以及
其中处理器通过从与所述多个参数值对应的多个特征值中计算产生峰高度的最大值或峰宽度的最小值的所述至少一个参数的值来计算所述至少一个参数的最优值。
6.如权利要求3所述的系统,
其中ADE设备、OPI或离子源设备的所述至少一个参数包括内管的出口的电极从离子源设备的喷嘴突出的长度,
其中所述一个或多个强度相对于时间质量峰的所述至少一个特征包括峰宽度,
其中,对于所述至少一个参数的每个值,处理器还指示OPI在多个流率值之间改变稀释液的流率,直到所述一个或多个强度相对于时间质量峰的峰宽度的宽度值小于峰宽度阈值,从而为每个值生成宽度值和流率值,以及
其中处理器通过从与所述多个参数值对应的多个特征值中计算产生具有最高流率的峰宽度的所述至少一个参数的值来计算所述至少一个参数的最优值。
7.如权利要求3所述的系统,
其中ADE设备、OPI或离子源设备的所述至少一个参数包括OPI的流率,
其中所述一个或多个强度相对于时间质量峰的所述至少一个特征包括峰高度、峰宽度或样本喷射与样本质量分析之间的延迟时间,以及
其中处理器通过从与所述多个参数值对应的多个特征值中计算产生峰高度的最大值、峰宽度的最小值或延迟时间的最大值的所述至少一个参数的值来计算所述至少一个参数的最优值。
8.如权利要求1或2所述的系统,其中样本包括实验溶液中的实验分析物。
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