[发明专利]黑色矩阵基板及具备该黑色矩阵基板的显示装置

说明书

本发明的黑色矩阵基板具备：透明基板；在透明基板的一个面上、在俯视下在第一方向上以线宽Ax、在第二方向上以线宽Ay形成为第一格子状图案的黑色矩阵；覆盖黑色矩阵的第一透明树脂层；在第一透明树脂层上、在第一方向上以小于所述线宽Ax的线宽Dx且以与线宽Ax相同的中心轴层叠为第二格子状图案的树脂壁；以及在第一方向上以大于线宽Dx的线宽Cx且以与线宽Ax相同的中心轴、按照将树脂壁覆盖的方式层叠的光反射层。光反射层中，沿着第一方向，在线宽Ax的内侧且距离线宽Ax的中心轴分别以宽Ex对称地具备边沿，并且具备在第一方向上以包含线宽Cx和具有宽Ex的2个边沿的线宽Bx、按照将光反射层覆盖的方式层叠的透明保护层。

技术领域

本发明涉及黑色矩阵基板及具备该黑色矩阵基板的显示装置。

本申请基于2020年4月28日在日本申请的日本特愿2020-079289号主张优先权，将其内容引用至此。

背景技术

专利文献1公开了一种背光单元，其具备：将由蓝色发光元件发出的光的波长进行转换的波长转换片材、蓝色发光元件、及光的反射隔壁。

但是，并没有反射隔壁中所用反射材料的记载，还不清楚反射隔壁的结构。因此，反射隔壁的形成方法变得不明确，第三者很难重现专利文献1所记载的技术。

专利文献2中公开了颜色转换部等的技术，所述颜色转换部包含具有在透光性基板的厚度方向上贯通的贯通孔的隔壁部和设置在贯通孔内侧的光的颜色转换物质。

图2等中公开的滤色器10中公开了红色着色部131R、绿色着色部131G、蓝色着色部131B和颜色转换部132的构成。由图可知，在遮光部122中，包含红色着色部121R和颜色转换部132的高度的厚度为T2、在段落0017中记载为10μm左右。包含碳黑等遮光性黑色色素的具有厚度的遮光部122的具体形成方法并不明确。虽然遮光部122的光学浓度不清楚，但在抑制入射光入射到相邻像素时的通常的光学浓度4前后的黑色矩阵中的10μm的厚度形成中，利用包含曝光、显影工序的公知的光刻法的手法时，曝光光在厚度方向上难以透过。因此，难以形成具有厚度的黑色矩阵。专利文献2未公开光反射膜形成的技术。

专利文献3公开了一种荧光体基板的技术，所述荧光体基板具有荧光体层和包围荧光体层的反射性隔壁，抑制激发光入射到原本应该入射的位置的相邻像素中。

段落0010～0013中公开了一种隔壁结构，其层叠有由包含树脂和光散射性粒子的材料形成的光散射层及光吸收层。图1中记载的光散射层的膜厚在段落0077中记载为1μm～100μm左右，在段落0080中记载的制造方法中记载了优选光刻法。专利文献2同样是光学浓度不清楚，但在利用通常需要的光学浓度为4前后的感光性光散射材料形成10μm以上厚度的光散射层及隔壁中，利用包含曝光、显影工序的公知的光刻法的手法时，曝光光在厚度方向上难以透过。进而，由于散射性粒子，曝光光被扩散，成为比光掩模的开口尺寸更大的图案，因此难以形成高分辨的图案。

专利文献4中公开了一种背光单元，其具备：将从紫外发光元件、蓝色发光元件发出的光的波长进行转换的荧光体基板；蓝色发光元件；及光的反射隔壁。

在段落0018、0021、0022中，虽然还不清楚是光的吸收还是反射，但作为金属膜公开了铝或铝合金等。在段落0021中，在金属膜的图案形成(开口底部的除去)中公开了激光消融，但并未记载因激光照射导致的高热的影响或因铝飞散导致的污染等例如对配线基板或LED的可预料到的损害。段落0022中公开了金属膜的剥离除去的方法，但并未记载用于考虑了隔壁高度(凹凸)的剥离的抗蚀剂涂布或曝光、显影等技术的详细情况。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开公报第2017/191714号说明书

专利文献2：日本特开2018-189920号公报