[发明专利]表面包覆切削工具在审

专利信息
申请号: 202180024545.4 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN115335166A 公开(公告)日: 2022-11-11
发明(设计)人: 佐藤峻 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: B23B27/14 分类号: B23B27/14;B23B51/00;C23C14/06
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 辛雪花;周艳玲
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 表面 切削 工具
【权利要求书】:

1.一种表面包覆切削工具,具有工具基体和该工具基体的表面上的包覆层,其特征在于,

1)所述包覆层的平均层厚为0.5~8.0μm,所述包覆层从所述工具基体侧朝向工具表面依次具有下部层、中间层和上部层,

2)在由组成式:(Al1-xCrx)N表示平均层厚为0.1~4.0μm的所述下部层的平均组成时,所述下部层由所述x为0.20~0.60的A层构成,

3)在由组成式:(Al1-a-bCraSib)N表示平均层厚为0.1~4.0μm的所述中间层的平均组成时,所述中间层由所述a为0.20~0.60、所述b为0.01~0.20的B层构成,

4)所述B层具有相邻的极大值与极小值的平均间隔为1~100nm的Si浓度的重复变化,

在将所述Si浓度的所述极大值的平均值设为Simax时,1.0<Simax/b≤2.0,

并且,在将所述Si浓度的所述极小值的平均值设为Simin时,0.0≤Simin/b<1.0,

5)在由组成式:(Ti1-α-βSiαWβ)N表示平均层厚为0.1~4.0μm的所述上部层的平均组成时,所述上部层由所述α为0.01~0.20、所述β为0.01~0.10的C层构成,

6)所述C层具有相邻的极大值与极小值的平均间隔为1~100nm的W浓度的重复变化,

在将所述W浓度的所述极大值的平均值设为Wmax时,1.0<Wmax/β≤2.0,

并且,在将所述W浓度的所述极小值的平均值设为Wmin时,0.0≤Wmin/β<1.0。

2.根据权利要求1所述的表面包覆切削工具,其特征在于,

所述中间层为D层,所述D层为所述B层与所述A层的交替层叠且其平均层厚为0.5~4.0μm,在该D层中包含两个以上的所述B层。

3.根据权利要求1或2所述的表面包覆切削工具,其特征在于,

在所述中间层与所述上部层之间具有平均层厚为0.1~2.0μm的密接层,在由组成式:(Al1-k-l-m-nTikCrlSimWn)N表示所述密接层的组成时,所述密接层由所述k为0.20~0.65、所述l为0.10~0.35、所述m大于0.00且为0.15以下、所述n大于0.00且为0.05以下的E层构成,

所述E层具有相邻的极大值与极小值的平均间隔为1~100nm的Si浓度的重复变化,

在将所述Si浓度的所述极大值的平均值设为Simax(E)时,1.0<Simax(E)/m≤2.0,

并且,在将所述Si浓度的所述极小值的平均值设为Simin(E)时,0.0≤Simin(E)/b<1.0。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的表面包覆切削工具,其特征在于,

在构成所述包覆层的各层中包含具有岩盐型立方晶结构的晶粒,

在汇总由所述A层和所述B层分别得到的X射线衍射峰并求出时,200衍射线的峰的半峰全宽为0.2~1.0度,在将所述衍射线的峰强度设为IAB200、将其111衍射线的峰强度设为IAB111时,0.5<IAB200/IAB111<10.0,

在将所述C层的200衍射线的峰强度设为IC200、将其111衍射线的峰强度设为IC111时,0.5<IC200/IC111<10.0。

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