[发明专利]电化学装置和包含其的电子装置

权利要求书

1.一种电化学装置，其包括：正极、负极和电解液，

所述正极包括正极集流体和位于所述正极集流体上的正极活性物质区、绝缘区和交互区；

所述交互区位于所述正极活性物质区和所述绝缘区之间，并且与所述正极活性物质区和所述绝缘区相接；

所述正极活性物质区包括正极活性物质；

所述绝缘区包括无机填料；

所述交互区包括所述正极活性物质和所述无机填料；并且

所述电解液包括具有氰基的化合物或具有硫氧双键的化合物中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述电解液包括具有氰基的化合物和具有硫氧双键的化合物，其中基于所述电解液的质量，所述具有氰基的化合物的质量百分比为a％，所述具有硫氧双键的化合物的质量百分比为b％，其中a和b满足：0.1≤a+b≤15；和0.5≤a/b≤20。

3.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述正极活性物质区的质量为A₁mg/1540.25mm²，所述绝缘区的质量为A₂mg/1540.25mm²，其中A₁和A₂满足：A₁/A₂＞1.2。

4.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述正极活性物质区的质量为A₁mg/1540.25mm²，所述A₁的取值范围为100至400。

5.根据权利要求1所述的电化学装置，其中基于所述绝缘区的质量，所述绝缘区中无机填料的质量百分比为M₁％，所述绝缘区的质量为A₂g/1540.25mm²，其中M₁和A₂满足：0.3≤M₁/A₂≤1.5。

6.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述正极活性物质区的质量为A₁mg/1540.25mm²，其中基于所述电解液的质量，所述具有氰基的化合物的质量百分比为a％，其中A₁和a满足：A₁/a＞8。

7.根据权利要求1所述的电化学装置，其中所述无机填料包括二氧化硅、氧化铝、水合氧化铝、氧化钛、氧化镁、氢氧化镁、氧化铝掺杂二氧化硅或勃姆石中的至少一种。