[发明专利]后处理设备

权利要求书

1.一种经配置为对胶乳进行后处理的后处理设备，所述后处理设备包括：

接收罐，该接收罐中具有接收部件，并且具有入口和排出口，其中通过所述入口将胶乳引入到所述接收部件内，并且通过所述出口排出胶乳；

超声波发生装置，该超声波发生装置经配置为向所述接收罐中所容纳的胶乳产生超声波；

减压部件，该减压部件经配置为降低所述接收罐的所述接收部件的压力，以将未反应的单体排放到所述接收罐的外部；和

分隔部件，该分隔部件设置在所述接收罐的所述接收部件中，并且包括沿着从所述接收罐的入口向排出口的方向设置的多个分隔件，

其中，所述接收部件中所容纳的胶乳沿着所述多个分隔件的上侧和下侧移动。

2.如权利要求1所述的后处理设备，其中，所述分隔部件包括：

固定在所述罐的底表面的下分隔件；和

定位成与所述罐的底表面以预定间隔向上隔开的上分隔件，并且

其中，所述接收部件中容纳的胶乳沿着下分隔件的上侧和上分隔件的下侧移动。

3.如权利要求2所述的后处理设备，其中，所述下分隔件和所述上分隔件沿着所述接收罐的入口向排出口的方向交替设置。

4.如权利要求1所述的后处理设备，其中，所述减压部件包括：

连接到所述接收罐的上侧的减压管线；和

设置在所述减压管线中的真空泵，并且

其中，所述减压部件通过所述真空泵对所述接收罐的所述接收部件进行减压，并通过所述减压管线将未反应的单体去除并排出到所述接收罐外，所述未反应的单体是由所述超声波发生装置从胶乳蒸发并分离出来的。

5.如权利要求1所述的后处理设备，其还包括：

泡沫消除部件，该泡沫消除部件位于所述接收罐的上侧，并且经配置为喷射泡沫消除物质以去除由所述接收部件中的胶乳流动产生的泡沫。

6.如权利要求1所述的后处理设备，其中，所述胶乳是氯乙烯类共聚物胶乳。

7.如权利要求1所述的后处理设备，其中，所述超声波发生装置设置在所述接收罐的下侧并且向所述接收罐中所容纳的胶乳产生超声波。

8.如权利要求2所述的后处理设备，其还包括：

温度调节部件，该温度调节部件位于所述接收罐的所述接收部件中，并且经配置为调节所述接收部件中所容纳的胶乳的温度。

9.如权利要求8所述的后处理设备，其中，所述温度调节部件沿着胶乳的移动方向设置在所述下分隔件和所述上分隔件之间。

10.如权利要求8所述的后处理设备，其中，所述温度调节部件将所述接收部件中所容纳的胶乳的温度维持在73℃至87℃。

11.如权利要求8所述的后处理设备，其中，所述温度调节部件将所述接收部件中所容纳的胶乳的温度维持在75℃至85℃。

12.如权利要求1所述的后处理设备，其中，所述超声波发生装置产生75kHz至1500kHz的超声波。

13.如权利要求1所述的后处理设备，其中，所述超声波发生装置产生100kHz至1000kHz的超声波。

14.如权利要求1所述的后处理设备，其还包括：

设置在所述接收罐的排出口侧的胶乳排出阀，

其中，调节所述排出阀以调节胶乳在所述接收罐中的停留时间。

15.如权利要求14所述的后处理设备，其还包括：

液位指示器，该液位指示器经配置为测量胶乳的高度水平，

其中，胶乳在所述接收罐中的停留时间通过基于由所述液位指示器测量的胶乳的高度水平调节所述排出阀来进行调节。