[实用新型]一种研磨装置有效
申请号: | 202123231652.0 | 申请日: | 2021-12-21 |
公开(公告)号: | CN216605376U | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 罗会军 | 申请(专利权)人: | 焦作福瑞堂怀药有限公司 |
主分类号: | B02C2/00 | 分类号: | B02C2/00;B02C23/02 |
代理公司: | 焦作市科彤知识产权代理事务所(普通合伙) 41133 | 代理人: | 杨明环 |
地址: | 454000 河南*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 研磨 装置 | ||
本实用新型涉及制药设备相关技术领域,具体为一种研磨装置,研磨装置包括下位研磨座、上位研磨座、液压组件、驱动组件,上位研磨座由第一研磨体、第二研磨体和转轴构成,第一研磨体、第二研磨体和转轴之间为一体成型,且第一研磨体中心位置开设有通孔,且转轴为管状结构,且上位研磨座为通过转轴转动安装在龙门支架的横梁之上,上位研磨座为通过驱动组件进行驱动;通过设置由下位研磨座、上位研磨座、液压组件和驱动组件组合构成的研磨装置,并通过驱动组件驱动上位研磨座进行转动,并通过液压组件驱动下位研磨座进行上下运动,从而通过下位研磨座与上位研磨座之间的相对运动,从而对物料形成碾压式研磨作用,从而有效提高对物料的研磨效果。
技术领域
本实用新型涉及制药设备相关技术领域,具体为一种研磨装置。
背景技术
制药原料研磨装置是用来对药品原料进行研磨以便后续加工的一种研磨设备;现有的制药原料研磨装置在使用时存在一定的弊端,其研磨效果不够好,存在部分较大颗粒未被研磨至所需水平,且装置的整体研磨效率较慢,为此,本实用新型提出一种研磨装置用以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种研磨装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种研磨装置,所述研磨装置包括:
下位研磨座,所述下位研磨座为一个以直角梯形下底边为旋转轴的旋转体结构;
上位研磨座,所述上位研磨座由第一研磨体、第二研磨体和转轴组合构成,所述第一研磨体、第二研磨体和转轴之间为一体成型,且第一研磨体中心位置开设有通孔,且转轴为管状结构,且上位研磨座为通过转轴转动安装在龙门支架的横梁之上;
液压组件,所述液压组件为固定安装在底座之上,且下位研磨座为固定安装在液压组件的伸缩杆上;
驱动组件,所述上位研磨座为通过驱动组件进行驱动。
优选的,所述驱动组件由驱动电机、传动齿轮和环形齿轮组合构成,所述环形齿轮为固定安装在上位研磨座的外侧壁上,所述驱动电机为固定安装在龙门支架的横梁上,所述传动齿轮为固定安装在驱动电机的转子上,且传动齿轮与环形齿轮之间为相啮合设置。
优选的,所述第一研磨体的下表面呈内凹设置,且第一研磨体的下表面与下位研磨座的上表面为平行设置。
优选的,所述第二研磨体为环形结构,且第二研磨体的内轮廓线与下位研磨座的外轮廓线为同心圆设置。
优选的,所述下位研磨座的上表面设置有第一研磨凸起,且第一研磨体的下表面设置有研磨槽,所述第一研磨凸起与研磨槽均呈环形结构,且其两者之间为相对应设置。
优选的,所述液压组件在进程运动至最上端时,其下位研磨座上表面与第一研磨体下表面之间并未接触,且液压组件在回程运动至最下端时,其下位研磨座上表面与第一研磨体下表面之间的间距小于下位研磨座侧面与第二研磨体内侧面距离的两倍。
优选的,所述下位研磨座的侧面设置有第二研磨凸起,所述第二研磨体的内侧面设置有第三研磨体,所述下位研磨座在上下运动时,其第二研磨凸起与第三研磨体之间并未接触。
所述转轴的上侧端口位置处一体成型有进料斗。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.通过设置由下位研磨座、上位研磨座、液压组件和驱动组件组合构成的研磨装置,并通过驱动组件驱动上位研磨座进行转动,并通过液压组件驱动下位研磨座进行上下运动,从而通过下位研磨座与上位研磨座之间的相对运动,从而对物料形成碾压式研磨作用,从而有效提高对物料的研磨效果;
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