[实用新型]一种耐高温纹理离型膜

权利要求书

1.一种耐高温纹理离型膜，其特征在于：包括基材层、纹理层和离型层，所述基材层的材质为耐高温薄膜类材料，所述纹理层为树脂类涂层；所述纹理层设置在所述基材层的表面，所述离型层设置在所述纹理层远离所述基材层一侧的表面，所述纹理层和离型层均设有向所述基材层相反一侧突出的纹理，所述纹理层上的纹理和所述离型层上的纹理配合一致。

2.根据权利要求1所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述离型层与所述纹理层之间设置有抗静电层。

3.根据权利要求1所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述基材层与所述纹理层之间设有电晕处理层。

4.根据权利要求1所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述基材层远离所述纹理层一侧的表面设置有识别涂料层。

5.根据权利要求4所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述识别涂料层远离所述基材层一侧的表面设置有透明耐磨涂料层。

6.根据权利要求5所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述透明耐磨涂料层远离所述识别涂料层一侧的表面喷涂有阻燃剂层。

7.根据权利要求6所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述阻燃剂层远离所述透明耐磨涂料层一侧的表面喷涂有抗菌剂层。

8.根据权利要求1所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述纹理为均布的条形槽、网格或凸点。

9.根据权利要求1所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述耐高温薄膜类材料为PI、PNT、PET或PEEK。

10.根据权利要求1所述的耐高温纹理离型膜，其特征在于：所述纹理层的凹凸深度为10微米～20微米；所述离型层为有机硅涂层，且其厚度为1微米。