[实用新型]一种引线框架表面处理设备的上料系统

权利要求书

1.一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：包括第一输送带(1)、顶升装置、直线平移模组以及第二输送带(12)，所述直线平移模组位于所述第一输送带(1)的末端，所述第一输送带(1)上放置有料盒(11)，所述第一输送带(1)用于将所述料盒(11)输送至所述直线平移模组，所述直线平移模组用于将所述料盒(11)推动至顶升装置上，所述直线平移模组还用于当取料完成后，将所述料盒(11)推送至第二输送带(12)上，所述顶升装置用于顶升料盒(11)。

2.根据权利要求1所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：所述顶升装置包括升降平台(8)，所述升降平台(8)的下方安装有升降气缸(7)和导柱(9)。

3.根据权利要求2所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：还包括位于所述升降平台(8)前方的定位装置，所述定位装置用于将位于所述升降平台(8)上的料盒(11)向后推动至基准位。

4.根据权利要求3所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：所述定位装置包括定位气缸(14)，所述定位气缸(14)的输出端连接有定位板(13)。

5.根据权利要求4所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：所述直线平移模组包括第二驱动装置(4)，所述第二驱动装置(4)的输出端连接有导杆(6)，导杆(6)外部安装有推板(5)。

6.根据权利要求5所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：还包括驱动第一输送带(1)运转的第一驱动装置(3)，以及驱动第二输送带(12)运转的第三驱动装置(10)。

7.根据权利要求4所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：所述定位装置还包括止挡气缸(15)，所述止挡气缸(15)配合定位气缸(14)限定升降平台(8)上的料盒(11)的位置。

8.根据权利要求1所述的一种引线框架表面处理设备的上料系统，其特征在于：所述第一输送带(1)的侧边设置有限位板(2)，所述第一输送带(1)的框架上安装有安装块(16)，所述安装块(16)的内部穿入一插杆(18)，所述插杆(18)的末端与限位板(2)固定，所述安装块(16)的顶部穿入一螺栓(17)用于固定所述插杆(18)。