[实用新型]一种流延装置

说明书

本实用新型公开了一种流延装置，包括用于输送基底膜带的输送机构，其特征在于，还包括用于存放涂布液的开口容器及流延辊；流延辊，其相对开口容器转动，其至少部分辊面位于涂布液的液面以下，其上绕接待涂布的基底膜带；基底膜带从流延辊的一侧绕进，从流延辊的另一侧绕出。本实用新型减少了介质薄膜的缺陷，提高了介质薄膜的涂布精度。

技术领域

本实用新型涉及流延成型领域，特别涉及一种流延装置。

背景技术

目前，随着5G和智能电子设备迅速发展，多片层陶瓷电阻、电容(MLV、MLCC)等电子元件需求上升，产品热度居高不下。该类电子元件的表层需要形成一层由陶瓷材料等组成的薄膜层。现有的多片层陶瓷电子元件的生产过程多以流延成型的方式形成薄膜层。当前的陶瓷浆料在多片层陶瓷电阻等的表面主要通过刮刀方式涂布、挤压出料涂布以及提拉式涂布等流延方式形成。

对于刮刀涂布的方法，由于需要确保刮刀和基底膜带(多片层陶瓷电阻等的初成品)之间保持较为稳定的间距，因此相应的涂布设备需要满足较高的精度要求。此外，该类涂布设备要求浆料具有较高的粘度，较低的流动性，而较高的粘度容易使浆料中产生的气泡不易排出，且在成型前不易过滤，容易使过滤芯堵塞，这些将在无形中提高了浆料制备和流延成型的生产难度，并促使流延出的陶瓷膜难以保持在稳定的厚度区间。

对于挤压出料涂布的方法，在该方法中，涂布设备在基底膜带厚度方向的两侧分别布置有挤压设备。该类涂布设备同样适用于高粘度、低流动性的浆料。该类型的浆料容易在加压设备上凝固从而导致良品率较低。

对于提拉涂布的方法，其尤其适用于低粘度陶瓷浆料的流延涂布。在该方法中，基底膜带的宽度两侧被夹持在相应的提升设备上。在生产过程中，提升设备将从盛放浆液的布料槽底部向上提拉，借助于低粘度陶瓷浆料的良好流动性，浆料在基底膜带上形成薄膜层。受壁面摩擦影响等，浆料在布料槽中循环不充分，导致膜带厚度不均匀。并且，在生产过程中，基底膜带表面会在布置在布料槽出口处的密封条形成摩擦，这会促使基底膜带产生划痕并体现到介质薄膜上，从而导致介质薄膜的缺陷增多、精度降低。

发明内容

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种在膜带表面形成厚度均匀的薄膜层的流延装置。

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：一种流延装置，包括用于输送基底膜带的输送机构，还包括用于盛放涂布液的开口容器及流延辊；流延辊，其相对开口容器转动，其至少部分辊面位于涂布液的液面以下，其上绕接待涂布的基底膜带；基底膜带从流延辊的一侧绕进，从流延辊的另一侧绕出。

进一步地，基底膜带从流延辊的一侧绕出时与水平方向的角度范围为45°～90°。

进一步地，还包括使流延辊的转轴轴线水平和/或垂直移动的流延辊调位机构。

进一步地，流延辊调位机构包括竖向支撑杆和横向伸缩杆，竖向支撑杆一端与位于开口容器上方的固定支点铰接，另一端与流延辊的转轴铰接；横向伸缩杆一端与流延辊的转轴铰接，其伸缩时使流延辊的转轴轴线以固定支点为圆心周向移动。

进一步地，竖向支撑杆为伸缩式，其伸缩时使流延辊的转轴轴线以固定支点为圆心径向移动，竖向支撑杆伸缩范围为40cm～60cm。

进一步地，还包括第一固定架、第二固定架、横向滑杆及纵向滑杆；横向滑杆和纵向滑杆垂直连接；第一固定架包括外框架和位于外框架内的伸缩支撑柱；伸缩支撑柱的底端和外框架底部固接；伸缩支撑柱的顶端与开口容器固接；外框架的上部与流延辊转动连接；外框架的下部固接有水平滑槽；横向滑杆与水平滑槽滑动配合；第二固定架相对地面固定，其设有垂直滑槽；纵向滑杆与垂直滑槽滑动配合。