[实用新型]一种光刻浮雕镭射全息图案结构及游戏卡牌有效
| 申请号： | 202122808274.1 | 申请日： | 2021-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN216456834U | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 胡文喜;罗万里;张辉;梁波;魏永建;张博 | 申请（专利权）人： | 中丰田光电科技（珠海）有限公司 |
| 主分类号： | A63F1/02 | 分类号： | A63F1/02 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 卢泽明 |
| 地址： | 519000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 浮雕 镭射 全息 图案 结构 游戏卡 | ||
1.一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：其包括依次层叠的基膜层(1)、UV涂料层(2)、光刻浮雕镭射全息图案层(3)及油墨层(5)，所述图案层(3)与所述油墨层(5)之间设置有沉积层(4)，所述沉积层(4)为铝层或硫化锌介质层。
2.根据权利要求1所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述基膜层(1)为PET膜层、BOPP膜层或PVC膜层的其中一种。
3.根据权利要求1或2所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述基膜层(1)与所述UV涂料层(2)之间还设置有预涂层。
4.根据权利要求3所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述预涂层的厚度为2μm至5μm。
5.根据权利要求1所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述基膜层(1)的厚度为100μm～300μm。
6.根据权利要求1所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述UV涂料层(2)的厚度为8μm至12μm。
7.根据权利要求1所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述铝层的厚度为350埃至450埃。
8.根据权利要求1所述的一种光刻浮雕镭射全息图案结构，其特征在于：所述硫化锌介质层的透光率为80％至90％。
9.一种游戏卡牌，其特征在于：其包括如权利要求1－6任一项所述的光刻浮雕镭射全息图案结构。
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