[实用新型]一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构有效
| 申请号: | 202122518193.8 | 申请日: | 2021-10-19 |
| 公开(公告)号: | CN216304319U | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
| 发明(设计)人: | 王建新 | 申请(专利权)人: | 中航凯迪恩机场工程有限公司 |
| 主分类号: | E01C7/14 | 分类号: | E01C7/14;E01C9/00;E01C11/22;E03F3/06;E03F5/14;E02D17/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 101300 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 机场 巡场路 排水 明沟 结合 建设 结构 | ||
本实用新型涉及机场施工技术领域,具体公开了一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构包括排水明沟和过车平台,过车平台铺装在排水明沟的左右两侧;所述过车平台的底部水平铺设有水平砌砖,水平砌砖的左右两侧均倾斜铺设有倾斜砌砖,过车平台远离倾斜砌砖的一侧倾斜铺设有倾斜砖板;所述排水明沟的上间隔固定有多个过滤件,过滤件的后侧设置有过滤拦网,过滤件的左右内壁上间隔设置有多列上下交错设置的过滤拦杆;能够满足机场排水和巡场路功能使用要求,能够高效利用机场内土地,而且施工难度不高,节约材料,从而节约建设成本,降低了工程量,缩短了施工工期,结构后期使用寿命长,维护保养简单。
技术领域
本实用新型涉及机场施工技术领域,具体为一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构。
背景技术
随着航空业务领域的快速发展,伴随新机场的大量建设以及现有机场的大规模扩建,机场内使用面积规划日趋紧凑紧张,高效率使用机场内土地成为必然。现有的机场巡场路与排水明沟大多为独立分开式建设、施工方式,导致机场施工工期长,成本较高,无法对机场场地进行合理利用,而且排水明沟在长期使用的过程中,极易出现杂物沉积,水沟堵塞的情况,因此急需一种能够将机场必须功能区巡场路和排水明沟结合建设,高效使用机场内土地,降低建设成本,且排水明沟不易堵塞,使用寿命较长的施工方案。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构,包括排水明沟和过车平台,过车平台铺装在排水明沟的左右两侧;所述过车平台的底部水平铺设有水平砌砖,水平砌砖的左右两侧均倾斜铺设有倾斜砌砖,两组倾斜砌砖左右对称铺设,两组倾斜砌砖呈倒置的“八”字形结构;所述过车平台铺设在倾斜砌砖远离水平砌砖的一侧,过车平台包括从上至下依次铺设的上钢筋混凝土层、下钢筋混凝土层和素混凝土垫层,上钢筋混凝土层的顶端为轮胎承压面;所述过车平台远离倾斜砌砖的一侧倾斜铺设有倾斜砖板,两组倾斜砖板左右对称铺设,且两组倾斜砖板呈倒置的“八”字形结构;所述排水明沟的上间隔固定有多个过滤件,过滤件的后侧设置有过滤拦网,过滤件的左右内壁上间隔设置有多列上下交错设置的过滤拦杆。
优选的,相邻的所述水平砌砖、倾斜砌砖之间的缝隙通过水泥砂浆填缝,水平砌砖和倾斜砌砖的上表面均涂覆有第一水泥砂浆抹面层。
优选的,两组所述倾斜砖板的上表面均涂覆有第二水泥砂浆抹面层。
优选的,所述上钢筋混凝土层、下钢筋混凝土层和素混凝土垫层的厚度优选为4-5cm。
优选的,所述第一水泥砂浆抹面层、第二水泥砂浆抹面层的厚度一致,其厚度优选为4-5cm。
优选的,所述过滤件的截面呈上宽下窄的等腰梯形结构,过滤件的左右两侧侧壁与两组倾斜砌砖上的第一水泥砂浆抹面层贴合连接。
优选的,所述过滤件的后侧通过螺栓固定有防脱拦板,过滤件的左右两侧设置有防脱卡条,防脱拦板对应防脱卡条的位置上开设有防脱卡槽,防脱卡条卡接在防脱卡槽的内部。
优选的,所述过滤拦网的顶端设置有提拉把手。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用新型提供的一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构,能够满足机场排水和巡场路功能使用要求,能够节约机场土地使用,高效利用机场内土地,而且施工难度不高,节约材料,从而节约建设成本,降低了工程量,缩短了施工工期,结构后期使用寿命长,维护保养简单,既高效利用了机场内土地,又有效节约成本。
2、本实用新型提供的一种机场巡场路和排水明沟结合建设结构,本方案还在排水明沟上设置有过滤件,该过滤件可拆卸式的安装在排水明沟内,既能够便于对排水明沟中污水杂质进行过滤,且该过滤件便于进行定期清理,避免出现堵塞的情况。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中航凯迪恩机场工程有限公司,未经中航凯迪恩机场工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202122518193.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





