[实用新型]紫色双银低辐射镀膜玻璃有效

专利信息
申请号: 202122373338.X 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN216191930U 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 董清世;马秀军;易吉文;郭泽渊 申请(专利权)人: 信义玻璃(天津)有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 郭雨桐
地址: 300000 天津市滨*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 紫色 双银低 辐射 镀膜 玻璃
【权利要求书】:

1.一种紫色双银低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基板,所述玻璃基板的一侧由内向外依次设置有基层第一电介质层、基层第二电介质层、第一银膜层、第一阻挡层、中间第一电介质层、中间第二电介质层、第二银膜层、第二阻挡层和保护层,其特征在于:所述保护层包括依次层叠的上层第一电介质层、上层第二电介质层和上层第三电介质层;所述上层第一电介质层铺设在所述第二阻挡层背向第二银膜层的一面,所述上层第一电介质层具有抗氧化特性,所述上层第二电介质层用于提高韧性,所述上层第三电介质层具有抗划伤、耐磨和抗腐蚀的特性。

2.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述基层第一电介质层为SiZrOx层、TiO2层、SiO2层、Ta2O5层、SiNxOy层、BiO2层、Al2O3层、Nb2O5层、Si3N4层或AZO层,所述基层第一电介质层的厚度为20~40nm。

3.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述基层第二电介质层为ZnSnOx层、SnO2层、ZnO层或Al2O3层,所述基层第二电介质层的厚度为10~15nm。

4.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一阻挡层和所述第二阻挡层均为镍铬层、氧化镍铬层或氮化镍铬层,所述第一阻挡层和所述第二阻挡层的厚度均为1~5nm。

5.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述中间第一电介质层为ZnSnOx层、SnO2层、ZnO层或Al2O3层,所述中间第一电介质层的厚度为60~70nm。

6.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述中间第二电介质层为ZnSnOx层、SnO2层、ZnO层或Al2O3层,所述中间第二电介质层的厚度为10~15nm。

7.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述上层第一电介质层为ZnSnOx层、SnO2层、ZnO层或Al2O3层,所述上层第一电介质层的厚度为5~10nm。

8.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述上层第二电介质层为SiO2层、Ta2O5层、SiNxOy层或Si3N4层,所述上层第二电介质层的厚度为15~25nm。

9.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述上层第三电介质层为TiO2层、BiO2层、Nb2O5层或AZO层,所述上层第三电介质层的厚度为5~10nm。

10.如权利要求1所述的紫色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:

所述基层第一电介质层为Si3N4层且厚度为25~28nm;

所述基层第二电介质层为ZnO层且厚度为10~12nm;

所述第一银膜层的厚度为11~14nm;

所述第一阻挡层为NiCr层且厚度为1.5~3nm;

所述中间第一电介质层为SnO2层且厚度为62-65nm;

所述中间第二电介质层为ZnO层且厚度为10~12nm;

所述第二银膜层的厚度为12~15nm;

所述第二阻挡层为NiCr层且厚度为2.5~4nm;

所述上层第一电介质层为ZnO层且厚度为6~8nm;

所述上层第二电介质层为Si3N4层且厚度为15~18nm;

所述上层第三电介质层为TiO2层且厚度为5~7nm。

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