[实用新型]一种高功率755nm纳秒激光器有效

专利信息
申请号: 202122255694.1 申请日: 2021-09-17
公开(公告)号: CN215816816U 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 贾养春;刘国宏 申请(专利权)人: 深圳镭科激光精密有限公司
主分类号: H01S3/109 分类号: H01S3/109;H01S3/08
代理公司: 安徽致至知识产权代理事务所(普通合伙) 34221 代理人: 石磊
地址: 518101 广东省深圳市宝安区燕罗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 功率 755 nm 激光器
【说明书】:

实用新型涉及高功率755nm纳秒激光器技术领域,尤其涉及一种高功率755nm纳秒激光器,包括泵浦光源、准直透镜、聚焦透镜、高反镜、Nd:YVO4晶体、声光调Q开关、平凹镜a、平凹镜b、LBO倍频晶体、平凹镜c、平凹镜d、翠绿宝石晶体与平凹镜e。本实用新型通过808nm泵浦源泵浦Nd:YVO4实现纳秒级1064nm输出,将倍频晶体LBO和翠绿宝石晶体置于腔内两腰斑处,通过设计腔长参数,使得谐振腔内LBO位置处振荡光束的瑞利长度等于LBO晶体长度,巧妙设计腔结构,以内腔倍频LBO实现高效率倍频转化得到高效率532nm输出,同时使得谐振腔内翠绿宝石晶体位置处振荡光束瑞利长度等于翠绿宝石晶体长度,进而实现532nm激光泵浦翠绿宝石晶体实现高效率755nm激光输出。

技术领域

本实用新型涉及高功率755nm纳秒激光器技术领域,尤其涉及一种高功率755nm纳秒激光器。

背景技术

现有技术中,端泵固态紫外和绿光激光器一般用808纳米泵浦Nd:YVO4晶体产生1064纳米的基频光。由于这Nd:YVO4晶体对808纳米的吸收很强,并且基态粒子被泵浦到比激发态更高的能级上,紧接着通过无辐射跃迁的方式跃迁至激光上能级而发射1064纳米激光。这个无辐射跃迁产生的热使得晶体内部温度比晶体边上高而形成自聚焦,阻碍了功率的上升。并且使得激光器稳定区间变窄,同时光斑质量随功率的上升而变差。进而导致使得谐振腔内LBO位置处振荡光束的瑞利长度不能与LBO晶体长度相符合,无法有效实现高效率倍频转化得到高效率532nm输出,同时无法使得谐振腔内翠绿宝石晶体位置处振荡光束瑞利长度与翠绿宝石晶体长度符合,无法有效实现高效率755nm激光输出。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种高功率755nm纳秒激光器,解决了现有技术中无法有效实现高效率755nm激光输出的问题。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种高功率755nm纳秒激光器,包括泵浦光源、准直透镜、聚焦透镜、高反镜、Nd:YVO4晶体、声光调Q开关、平凹镜a、平凹镜b、LBO倍频晶体、平凹镜c、平凹镜d、翠绿宝石晶体与平凹镜e,其中,所述泵浦光源、所述准直透镜、所述聚焦透镜、所述高反镜、所述Nd:YVO4晶体、所述声光调Q开关与所述平凹镜a在同一直线上依次设置,所述平凹镜b位于平凹镜a的反射方向,所述平凹镜c位于平凹镜b的反射方向,所述LBO倍频晶体位于平凹镜b与平凹镜c之间光束的腰斑处,所述平凹镜e位于平凹镜d的反射方向,所述翠绿宝石晶体位于平凹镜d与平凹镜e之间光束的腰斑处。

进一步的,所述平凹镜b与平凹镜c之间的光线穿过LBO倍频晶体。

进一步的,所述平凹镜d与平凹镜e之间的光线穿过翠绿宝石晶体。

进一步的,所述高反镜镀膜:HR@1064nm532nm755nm。

进一步的,所述Nd:YVO4晶体为掺钕钒酸钇激光晶体。

进一步的,所述平凹镜a与平凹镜d镀膜:HR@1064nm532nm755nm,曲率:R=200mm,入射角度:8°

进一步的,所述平凹镜b与平凹镜c镀膜:HR@1064nm532nm755nm,曲率:R=100mm,入射角度:8°。

进一步的,所述平凹镜e镀膜:HR@1064nm532nm,AR@755nm,曲率:R=200mm,入射角度:8°。

本实用新型至少具备以下有益效果:

本谐振腔采用多镜折叠腔设计,将倍频晶体LBO和翠绿宝石晶体置于腔内两腰斑处,通过设计腔长参数,使得谐振腔内LBO位置处振荡光束的瑞利长度等于LBO晶体长度,实现高效率倍频转化得到高效率532nm输出,同时使得谐振腔内翠绿宝石晶体位置处振荡光束瑞利长度等于翠绿宝石晶体长度,以达到模式匹配进而实现高效率755nm激光输出。

附图说明

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