[实用新型]一种UV减粘切割胶带有效

专利信息
申请号: 202122168151.6 申请日: 2021-09-09
公开(公告)号: CN216073664U 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 顾良华 申请(专利权)人: 苏州恒悦新材料有限公司
主分类号: C09J7/29 分类号: C09J7/29
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 uv 切割 胶带
【说明书】:

本实用新型涉及切割胶带技术领域,且公开了一种UV减粘切割胶带,包括PVC基材层、裁切槽、光学PET膜层、UV减粘胶层以及离型膜层,所述PVC基材层设于光学PET膜层上方,且PVC基材层与光学PET膜层相连接,裁切槽设于PVC基材层上,且裁切槽为方环结构,光学PET膜层设于UV减粘胶层上方,UV减粘胶层设于离型膜层上方,且UV减粘胶层与离型膜层相连接,该实用新型,通过PVC基材层、裁切槽、光学PET膜层、UV减粘胶层以及离型膜层的相互作用,使得设备在使用时,其基材上设有裁切槽,以便于加工过程中的裁切,且其在使用时,UV减粘胶层使得其在经过UV光照后,丧失其粘性,很容易被剥离,一定程度上提高了设备使用时的便利性。

技术领域

本实用新型涉及切割胶带技术领域,具体为一种UV减粘切割胶带。

背景技术

随着科技的发展,在半导体器件的制造领域,半导体器件和电子芯片逐步向的薄型化和小型化发展。常规的晶圆切割划片膜的基材薄膜生产工艺一般均采用了流延、压延法生产,其中配方主要采用了聚乙烯或聚丙烯类聚合物,切割胶带其通常由其宽度来决定其晶圆的直径,而其使用通常需要进行切割,现有的切割胶带通常结构较为平整,不便于切割。

为此,我们设计了一种UV减粘切割胶带。

发明内容

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种UV减粘切割胶带,解决了现有的设备不便于切割的问题。

为了达到上述目的,本实用新型所采用的技术方案是:一种UV减粘切割胶带,包括PVC基材层、裁切槽、光学PET膜层、UV减粘胶层以及离型膜层,所述PVC基材层设于光学PET膜层上方,且PVC基材层与光学PET膜层相连接,裁切槽设于PVC基材层上,且裁切槽为方环结构,光学PET膜层设于UV减粘胶层上方,UV减粘胶层设于离型膜层上方,且UV减粘胶层与离型膜层相连接。

进一步的,所述裁切槽的外边长小于PVC基材层的边长。

进一步的,所述PVC基材层为聚氯乙烯材质。

进一步的,所述光学PET膜层为涤纶树脂材质。

进一步的,所述离型膜层为低密度聚乙烯材质。

本实用新型的有益效果为:该实用新型,通过PVC基材层、裁切槽、光学PET膜层、UV减粘胶层以及离型膜层的相互作用,使得设备在使用时,其基材上设有裁切槽,以便于加工过程中的裁切,且其在使用时,UV减粘胶层使得其在经过UV光照后,丧失其粘性,很容易被剥离,一定程度上提高了设备使用时的便利性。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;图2为本实用新型的部分结构示意图;图3为本实用新型的部分结构剖视图。

图中:1、PVC基材层;2、裁切槽;3、光学PET膜层;4、UV减粘胶层;5、离型膜层。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

参看图1-3:一种UV减粘切割胶带,包括PVC基材层1、裁切槽2、光学PET膜层3、UV减粘胶层4以及离型膜层5,PVC基材层1设于光学PET膜层3上方,且PVC基材层1与光学PET膜层3相连接,裁切槽2设于PVC基材层1上,且裁切槽2为方环结构,光学PET膜层3设于UV减粘胶层4上方,UV减粘胶层4设于离型膜层5上方,且UV减粘胶层4与离型膜层5相连接。

其中,裁切槽2的外边长小于PVC基材层1的边长,PVC基材层1为聚氯乙烯材质,光学PET膜层3为涤纶树脂材质,离型膜层5为低密度聚乙烯材质。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州恒悦新材料有限公司,未经苏州恒悦新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202122168151.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top