[实用新型]用于涂胶显影机的喷嘴锁定装置有效

专利信息
申请号: 202122130839.5 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN216150260U 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 金浩天;孙游 申请(专利权)人: 上海众鸿电子科技有限公司;上海众鸿半导体设备有限公司
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C11/00;G03F7/16;G03F7/26
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 代理人: 王法男
地址: 201210 上海市浦东新区中国(*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 涂胶 显影 喷嘴 锁定 装置
【说明书】:

本实用新型专利公开了一种用于涂胶显影机的喷嘴锁定装置,涂胶显影机包括作业平台、安装于作业平台的吸盘和涂胶装置。喷嘴锁定装置包括动力机构和锁定机构。动力机构安装于作业平台。锁定机构包括一基座和多个锁定支架,基座安装于工装载具的一侧,多个锁定支架均铰接于基座,且每一锁定支架和基座的铰接处均设有一弹性件。锁定支架在弹性件的作用下对接与其相对应的喷嘴,以将喷嘴锁定于工装载具;及动力机构用于对接任一锁定支架,以驱动锁定支架脱离于喷嘴。本实用新型能够有效确保涂胶显影机在运行的过程中,喷嘴能够始终处于稳固的状态,不会轻易从工装载具上脱离,从而能够在很大程度上提高对晶圆涂胶的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤指一种用于涂胶显影机的喷嘴锁定装置。

背景技术

在半导体器件制造和先进封装工艺中,光刻工艺是指在基板上,如半导体晶圆上依次经过光刻胶涂敷、曝光、显影等处理,将光刻掩膜板上设计好的图案转移到基板表面膜层中的过程。光刻胶涂敷过程中,通过在基板表面涂敷光刻胶液并对所涂敷的光刻胶液进行加热处理形成光刻胶膜层,然后再通过曝光显影工艺在基板表面的光刻胶层中形成规定的图案结构。

在现有的涂胶显影机领域,通常是在一载板上设置多个工位,然后将多个用于对晶圆喷涂不同类型胶水的喷嘴依次放置于工位上。根据具体喷涂类型选择相对应的喷嘴以对晶圆进行涂胶程序。然而,喷嘴是直接放置于工位上的,当涂胶显影机在运行的过程中,喷嘴很容易因受到震动或其它外力作而导致胶水的溅射,甚至直接从工位上脱离,从而影响涂胶进程及给在场的工作人员带来安全隐患。

因此,基于现有技术中存在的缺陷,如有有效确保涂胶显影机在运行的过程中,喷嘴能够始终处于稳固地状态,不会轻易脱离于工位,一直是本领域普通技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种用于涂胶显影机的喷嘴锁定装置,能够有效确保涂胶显影机在运行的过程中,在喷嘴锁定装置的作用下,喷嘴能够始终处于稳固的状态,不会轻易从工装载具上脱离,从而在很大程度上提高了对晶圆涂胶的稳定性。

本实用新型提供的技术方案如下:

一种用于涂胶显影机的喷嘴锁定装置,所述涂胶显影机包括作业平台、安装于所述作业平台的吸盘和涂胶装置,所述吸盘用于吸附晶圆,所述涂胶装置包括相对于所述作业平台滑动的工装载具和多个并列设于所述工装载具,以对晶圆进行涂胶的喷嘴,其特征在于,所述喷嘴锁定装置包括:

动力机构和锁定机构;

所述动力机构安装于所述作业平台;

所述锁定机构包括一基座和多个锁定支架;

所述基座安装于所述工装载具的一侧,多个所述锁定支架均铰接于所述基座,且每一所述锁定支架和所述基座的铰接处均设有一弹性件;

其中,所述锁定支架和所述喷嘴一一对应设置,所述锁定支架在所述弹性件的作用下对接与其相对应的所述喷嘴,以将所述喷嘴锁定于所述工装载具;及所述动力机构用于对接任一所述锁定支架,以驱动所述锁定支架脱离于所述喷嘴。

本专利中,通过将基座固定于工装载具的一侧,且将多个锁定支架沿基座的长度方向间隔铰接于基座上,使得锁定支架和喷嘴一一对应匹配设置。如此,每一锁定支架在弹性件的弹力作用下抵接与其相对应的喷嘴,以将喷嘴锁定于工装载具。当涂胶显影机在运行的过程中,即使喷嘴受到剧烈的震动,喷嘴在锁定支架的定位作用下也不会脱离于工装载具,从而在很大程度上防止了胶水的溅射,进而提高了对晶圆涂胶的稳定性。当喷嘴需要对晶圆进行涂胶时,可将所需涂胶的喷嘴输送至正对于动力机构的位置,动力机构运行,以对接于该喷嘴对应的锁定支架,并提供锁定支架与弹性件相反的作用力,使得锁定支架脱离于喷嘴,以实现喷嘴能够从工装载具上取出。

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