[实用新型]足下垂足部锻炼装置

权利要求书

1.一种足下垂足部锻炼装置，其特征在于，包括：

底座，所述底座具有两个收容腔；

两个承托板，两个所述承托板可枢转地分别设在两个所述收容腔内以承托足部；

驱动机构，所述驱动机构分别与两个所述承托板相连，用于驱动所述承托板在所述收容腔内往复枢转，以使所述足部随所述承托板作足背曲伸运动。

2.根据权利要求1所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述驱动机构包括：

双轴电机，设在两个所述收容腔之间，所述双轴电机的两个电机轴分别延伸至两个所述收容腔内；

两个偏心轮，两个所述偏心轮分别设在两个所述电机轴上，以随所述双轴电机转动。

3.根据权利要求2所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，还包括：

第一连杆，所述第一连杆的一端与所述偏心轮枢接；

第二连杆，所述第二连杆的第一端与所述第一连杆的另一端枢接，所述第二连杆的第二端与所述承托板枢接。

4.根据权利要求3所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述承托板下端的两侧设有两个枢接轴，两个所述枢接轴分别延伸至与所述收容腔的侧壁相枢接，以使所述承托板绕所述枢接轴枢转。

5.根据权利要求3所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述承托板上端设有导向轴，且所述导向轴位于与所述第二连杆相背离的一侧，所述收容腔的侧壁设有与所述导向轴对应设置的弧形槽，所述导向轴延伸至所述弧形槽内，用以对所述承托板导向支撑。

6.根据权利要求1所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述承托板上具有容纳槽，所述容纳槽在所述承托板的厚度方向凹陷设置以供所述足部放置在内。

7.根据权利要求6所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述承托板上还设有限位部，所述限位部两端分别连接于所述承托板两侧且位于所述容纳槽上方。

8.根据权利要求1所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述底座位于所述承托板的一侧形成为倾斜面，当所述承托板枢转至所述收容腔的敞口位置时，所述承托板与所述倾斜面处于同一平面上。

9.根据权利要求1所述的足下垂足部锻炼装置，其特征在于，所述承托板的枢转角度为50-70度。