[实用新型]一种磁流变抛光液在线匀化装置

说明书

本实用新型公开了一种磁流变抛光液在线匀化装置，涉及光学元件抛光加工领域，包括底板，底板的顶部两侧均安装有气缸，两个气缸的输出端均通过活塞杆安装有连接板，两个连接板之间固定有活动柱，活动柱的两侧通过螺栓安装有第一桨叶。本实用新型通过设置有清液组件，当活动柱上移后，由于清液环与活动柱的外壁相接触，使得清液环能够刮除掉活动柱表面附着的抛光液，避免大量的抛光液被活动柱带出而掉落至装置外部，进而减少抛光液的浪费，同时活动柱上移带动第一桨叶和第二桨叶上移，而当第一桨叶或第二桨叶与清液环相接触时，使用者通过拉动拉杆，以使活动板带动连杆移动，而连杆移动后可带动清液环移动，以使清液环不与活动柱表面相接触。

技术领域

本实用新型涉及光学元件抛光加工领域，具体为一种磁流变抛光液在线匀化装置。

背景技术

磁流变抛光技术被誉为光学制造界的革命性技术，它利用磁流变抛光液的可控流变性实现对工件材料的精确微量确定性去除，能高效率获得数十纳米以下高精度型面、纳米级表面质量且近无亚表面缺陷，很好地满足航天、航空和国防等领域光学元件的加工要求。

根据公开号为CN105642143B的中国专利公开了一种磁流变抛光液在线匀化装置，该发明能够实现磁流变抛光液各组份匀化，解决磁流变抛光液长时间工作沉降问题，适用于高、低粘度宽范围磁流变抛光液的在线匀化；但由于该装置中的传送泵体位于储液罐内部，并浸泡于抛光液内部，使得传送泵体表面会附着有较多的抛光液，导致在取出传送泵体时，少部分抛光液会被带出进而会掉落至装置外部，从而造成抛光液的浪费；同时该装置中只有转轴支撑放置座和储液罐转动，而由于储液罐有一定重量，使得储液罐转动时转轴难以对其起到稳定支撑的作用，进而降低了储液罐转动时的稳定性。

实用新型内容

基于此，本实用新型的目的是提供一种磁流变抛光液在线匀化装置，以解决不便清理传送泵体表面附着的抛光液与储液罐转动时的稳定性较差的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种磁流变抛光液在线匀化装置，包括底板，所述底板的顶部两侧均安装有气缸，两个所述气缸的输出端均通过活塞杆安装有连接板，两个所述连接板之间固定有活动柱，所述活动柱的两侧通过螺栓安装有第一桨叶，所述活动柱的底端通过螺栓安装有第二桨叶，所述底板的顶部中间位置处安装有电机，所述电机的输出端连接有放置座，所述放置座的内部设置有储液罐，且所述储液罐与放置座分体设置，所述放置座的底部设置有支撑组件，所述储液罐的顶部设置有清液组件。

通过采用上述技术方案，气缸工作可使活塞杆伸长或收缩进而可带动连接板上下移动，连接板上下移动后可带动活动柱上下移动，同时电机工作后可带动放置座转动，继而可带动储液罐转动，而第一桨叶和第二桨叶可对抛光液进行搅动。

进一步的，所述清液组件包括有开设于储液罐顶部两侧的凹槽，两个所述凹槽的内部均固定有弹簧，所述弹簧的一端连接有滑板，所述滑板的顶部固定有活动板，所述活动板的一侧安装有拉杆，所述活动板的另一侧安装有连杆，所述连杆的一端固定有清液环。

通过采用上述技术方案，使用者通过拉杆带动活动板移动，进而可使滑板在凹槽内部滑动，同时连杆会带动清液环移动，以便调整清液环的位置。

进一步的，两个所述清液环均为半圆形，所述清液环的直径与活动柱的直径相同，所述清液环的内壁与活动柱的外壁相接触。

通过采用上述技术方案，可使清液环对活动柱表面的抛光液进行清除，从而避免大量的抛光液被活动柱带出而造成浪费。

进一步的，所述活动板通过滑板与凹槽滑动连接，所述弹簧采用不锈钢材料制作而成。

通过采用上述技术方案，以便滑板在凹槽内部滑动，而滑板移动时可带动活动板移动，同时其可挤压或拉伸弹簧。