[实用新型]天线单元和阵列天线有效

专利信息
申请号: 202121535337.4 申请日: 2021-07-07
公开(公告)号: CN215377703U 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 廖建友;靳炉魁 申请(专利权)人: 大富科技(安徽)股份有限公司
主分类号: H01Q21/00 分类号: H01Q21/00;H01Q1/52;H01Q1/36;H01Q1/38
代理公司: 深圳市睿智专利事务所 44209 代理人: 郭文姬;周慧玲
地址: 233000 安徽省蚌埠市高*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 天线 单元 阵列
【说明书】:

一种阵列天线包括至少两个天线单元;其中的天线单元,包括振子辐射面、介质支撑、金属引相片、介质基板和地;金属引相片、振子辐射面为矩形,介质支撑为矩形框体;金属引相片位于最上层,介质支撑位于振子辐射面和金属引相片之间;介质基板位于地与振子辐射面之间;金属引相片长度不等于宽度。通过振子本身结构的调整,将辐射片上的电流或者金属引相片上的电流改为不对称,相邻的天线单元耦合降低,能有效改善交叉极化比;容易实施,加工简单;从而使双极化阵列的结构设计简化,同时具有优良的辐射性能。

技术领域

实用新型涉及一种天线装置,具体涉及一种阵列天线。

背景技术

随着5G通信技术的发展,目前5G基站主要采用Massive MIMO大型阵列天线实现波束赋型,使得阵列间距变小,振子与振子之间耦合变强,阵列方向图的交叉极化比恶化严重,从而影响基站整体覆盖和传输性能。提高振子之间的性能显得更为重要。

阵列天线包括很多天线单元,如图1所示,天线单元由振子辐射面、介质支撑、金属引相片、介质基板和地组成。介质支撑位于振子辐射面和金属引相片之间。

这种结构,天线单元自身隔离度和交叉极化比较差,调节振子辐射面与金属引相片之间的距离,可以改善隔离度,但交叉极化比没有明显变化。

对于一个含有多天线振子的MIMO或Massive MIMO天线来说,为保证阵列的交叉极化比,4G通信中通常采用的方式尽量增加阵列距离,以及在振子中加横向隔离条,如图2所示。在5G的Massive MIMO天线中,改变阵列间距会使阵列的波束扫描幅度、相位发生变化;增加横向隔离条会使天线装配复杂,同时会改变天线的隔离度。

实用新型内容

本实用新型是解决现有技术中各种大型阵列天线中,天线单元自身隔离度和交叉极化比较差的问题,提出改变介质支撑或/和金属引相片的细微结构,改善天线单元之间的隔离度与交叉极化比较差的问题。

本申请解决上述技术问题的技术方案是一种天线单元,包括振子辐射面、介质支撑、金属引相片、介质基板和地;金属引相片、振子辐射面为矩形,介质支撑为矩形框体;金属引相片位于最上层,介质支撑位于振子辐射面和金属引相片之间;介质基板位于地与振子辐射面之间;金属引相片长度不等于宽度。

本申请解决上述技术问题的技术方案还可以是一种阵列天线包括至少两个天线单元,天线单元包括振子辐射面、介质支撑、金属引相片、介质基板和地;金属引相片、振子辐射面为矩形,介质支撑为矩形框体;金属引相片位于最上层,介质支撑位于振子辐射面和金属引相片之间;介质基板位于地与振子辐射面之间;金属引相片长度不等于宽度。

可以是,金属引相片长度与宽度相差1毫米。

本申请解决上述技术问题的技术方案还可以是一种天线单元,包括振子辐射面、介质支撑、金属引相片、介质基板和地;金属引相片位于最上层,介质支撑位于振子辐射面和金属引相片之间;介质基板位于地与振子辐射面之间;介质支撑水平方向的介质壁厚不等于垂直方向介质壁厚。

本申请解决上述技术问题的技术方案还可以是一种阵列天线,包括至少两个天线单元,天线单元包括振子辐射面、介质支撑、金属引相片、介质基板和地;金属引相片位于最上层,介质支撑位于振子辐射面和金属引相片之间;介质基板位于地与振子辐射面之间;介质支撑水平方向的介质壁厚不等于垂直方向介质壁厚。

可以是,介质支撑为矩形框体,介质支撑水平方向的介质壁厚与垂直方向介质壁厚相差一倍。

可以是,各个天线单元的介质基板连通为一个整体;各个天线单元的地连通为一个整体。

可以是,至少两个天线单元的振子辐射面由金属导线连通。

可以是,奇数个天线单元的振子辐射面由金属导线连通。

可以是,还包括保护面板,保护面板由非导体材料构成,保护面板覆盖在金属引相片之上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大富科技(安徽)股份有限公司,未经大富科技(安徽)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121535337.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top