[实用新型]一种基于超构材料的微纳折射率传感器

权利要求书

1.一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，包括等间距阵列设置的传感器单元，所述传感器单元包括由上至下依次设置的第一金属层、第一布拉格反射镜、介质层、第二布拉格反射镜和第二金属层，

所述第一布拉格反射镜和第二布拉格反射镜均包括GaAs层和AlGaAs层，所述GaAs层和AlGaAs层周期交替排列，

所述传感器单元设置通孔，所述通孔为正方形。

2.如权利要求1所述的一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，所述传感器单元的横剖面为正方形，边长为300nm～800nm。

3.如权利要求2所述的一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，所述第一金属层和第二金属层的材料为Ag，所述介质层的材料为InGaAsP。

4.如权利要求3所述的一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，所述第一金属层和第二金属层的厚度为40～100nm，所述介质层的厚度为75nm，所述GaAs层的厚度为114nm，所述AlGaAs层的厚度为130nm。

5.如权利要求1所述的一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，所述通孔的边长为172nm～344nm。

6.如权利要求5所述的一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，相邻所述通孔之间的间隔为86nm～258nm。

7.如权利要求1所述的一种基于超构材料的微纳折射率传感器，其特征在于，传感器的工作波长范围为1600nm～1800nm。