[实用新型]一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置

权利要求书

1.一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，包括热处理装置本体（1），所述热处理装置本体（1）内设有四个放置架（2），四个放置架（2）上均放置有托盘（3），其特征在于：所述热处理装置本体（1）上固定安装有安装板（5），安装板（5）的底侧固定安装有支撑板（10），支撑板（10）的另一端固定安装在热处理装置本体（1）上，所述安装板（5）上固定安装有电机（6），电机（6）的输出端通过联轴器固定安装有电机轴（7），电机轴（7）上固定安装有凸轮（8），相对应的两个放置架（2）上固定安装有同一个连接板（4），凸轮（8）与两个连接板（4）相接触。

2.根据权利要求1所述的一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，其特征在于：所述放置架（2）上固定安装有四个固定架（11），四个固定架（11）内均转动安装有活动轮（12），热处理装置本体（1）内固定安装有两个轨道（13），位于同一侧的两个活动轮（12）转动安装在相对应的一个轨道（13）上。

3.根据权利要求2所述的一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，其特征在于：所述固定架（11）上开设有安装槽（18），活动轮（12）活动安装在安装槽（18）内。

4.根据权利要求2所述的一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，其特征在于：所述活动轮（12）上开设有转动孔（15），两个转动孔（15）内均转动安装有转动轴（16），转动轴（16）的两端分别固定安装在安装槽（18）的两侧内壁上。

5.根据权利要求2所述的一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，其特征在于：所述轨道（13）上开设有滑槽（14），两个活动轮（12）均转动安装在滑槽（14）内。

6.根据权利要求2所述的一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，其特征在于：两个固定架（11）相互远离的侧面上均固定安装有弹簧（17），两个弹簧（17）的另一端均固定安装在热处理装置本体（1）的内壁上。

7.根据权利要求1所述的一种受热均匀的非晶纳米晶材料生产用热处理装置，其特征在于：所述热处理装置本体（1）上开设有活动孔（9），电机轴（7）贯穿活动孔（9）。