[实用新型]一种高强度雕刻机轴承氮离子惨透装置有效

专利信息
申请号: 202120760093.3 申请日: 2021-04-14
公开(公告)号: CN215976006U 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 雷周亮;王新军;潘加杰;方洁平 申请(专利权)人: 嘉兴雷特精密轴承有限公司
主分类号: C23C8/36 分类号: C23C8/36
代理公司: 嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙) 33253 代理人: 张抗震
地址: 314513 浙江省嘉兴市桐乡市洲泉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 强度 雕刻 机轴 离子 装置
【说明书】:

实用新型属于轴承技术领域,尤其是一种高强度雕刻机轴承氮离子惨透装置,其包括渗透处理箱,其特征在于,所述渗透处理箱的闭合门则是安装在其上方表面,闭合门通过密封工艺的铰接方式安装在渗透处理箱上方表面,渗透处理箱的下方两侧分别安装有一个牵引收起器,渗透处理箱的内部上方分安置有轴承收集盘,本实用新型轴承限制组件可以通过浮力的产生进行对轴承限制固定,避免轴承限制组件出现随意晃动及其被氮化液体打乱排列的情况发生。

技术领域

本实用新型涉及轴承技术领域,尤其涉及一种高强度雕刻机轴承氮离子惨透装置。

背景技术

雕刻从加工原理上讲是一种钻铣组合加工,雕刻机多种数据输入模式根据需要游刃有余。电脑雕刻机有激光雕刻和机械雕刻两类,这两类都有大功率和小功率之分。因为雕刻机的应用范围非常广泛,因此有必要了解各种雕刻机的最合适的应用范围。小功率的只适合做双色板、建筑模型、小型标牌、三维工艺品等,雕刻玉石、金属等则需要功率在1500W以上。大功率雕刻机可以做小功率雕刻机的东西。最适合做大型切割、浮雕、雕刻。

为了让雕刻机更好的作业,需要通过氮离子使轴承更为良好的加工,而现有的轴承氮离子惨透装置在稀释的氮化液体内随意的晃动或是排列被打乱,不便于工作人员进行收集,同时氮化液体不能够很好的对轴承渗透的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决装置一下问题:轴承氮离子惨透装置在稀释的氮化液体内随意的晃动或是排列被打乱,不便于工作人员进行收集,同时氮化液体不能够很好的对轴承渗透的问题。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种高强度雕刻机轴承氮离子惨透装置,包括渗透处理箱,其特征在于,所述渗透处理箱的闭合门则是安装在其上方表面,闭合门通过密封工艺的铰接方式安装在渗透处理箱上方表面,渗透处理箱的下方两侧分别安装有一个牵引收起器,渗透处理箱的内部上方分安置有轴承收集盘,轴承收集盘的两端通过导轨的方式与渗透处理箱的内部两侧内壁相连,轴承收集盘处于的位置是别牵引收起器所控制,轴承收集盘上安装有多个轴承限制组件。

两个所述牵引收起器分别安装在渗透处理箱的内部上方及其轴承收集盘两端的上方位置处,牵引收起器与轴承收集盘一端相连,牵引收起器内部的结构包括收缩轮、安装板、电机和收放绳索,电机和收缩轮都固定在安装板上,收放绳索则是与收缩轮相连,其收缩轮的下端与轴承收集盘相连,两个所述牵引收起器通过串联的方式与数据终端相连及其被控制。

所述渗透处理箱的一侧表面安装有氮化物晶体释放器,氮化物晶体释放器内储存的是MgN晶体,渗透处理箱的另一侧表面开设有注入管和释放管,渗透处理箱的内部下方安装有混合加速器。

所述轴承限制组件包括轴承收纳块,轴承限制槽,限制主轴,浮力转换盘,打开柱,限制块,限制杆和限制凸起,轴承收纳块上开设有轴承限制槽,轴承限制槽内安置有限制主轴,限制主轴上分别安装有浮力转换盘、打开柱、限制块、限制杆和限制凸起。

所述限制主轴的下端穿过轴承限制槽中心区域与轴承收纳块的下方表面连接,轴承限制槽是采用三字分区开设的通槽,浮力转换盘穿进限制主轴设置在轴承限制槽的二字区域位置,浮力转换盘的上方两侧分别设置有一个打开柱,打开柱上端端头为四分子一圆弧凸起,限制块设置在限制主轴上端,限制杆的上端通过铰接的方式与限制块下方内侧相连,限制杆的内侧区域设置有一个限制凸起,限制杆不会与限制凸起限制主轴表面贴合。

所述混合加速器包括横移带动杆,从动齿组,驱动齿轮,传入通槽,摇摆桨体和带动块,横移带动杆的上方中间区域设置有从动齿组,横移带动杆通过自身上方的从动齿组与驱动齿轮相啮合,横移带动杆的两端穿过传入通槽,传入通槽设置在摇摆桨体的中心区域,摇摆桨体设置有多个,每个摇摆桨体之间都具有间隙,而每个摇摆桨体之间的间隙设置有带动块,带动块固定在横移带动杆上,带动块直径大于传入通槽的直径,每个摇摆桨体都是通过铰接的方式与渗透处理箱内部内壁相连。

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