[实用新型]一种可调节面型的抛光垫有效

专利信息
申请号: 202120688141.2 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN214817857U 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 李加海;谭鸿 申请(专利权)人: 安徽禾臣新材料有限公司
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00
代理公司: 北京和联顺知识产权代理有限公司 11621 代理人: 李照
地址: 238200 安徽省马鞍山市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 调节 抛光
【说明书】:

本实用新型公开了一种可调节面型的抛光垫,包括抛光垫本体,所述抛光垫本体下表面的一周固定连接有螺纹固定圈,螺纹固定圈的内壁通过螺纹啮合有螺纹安装圈,抛光垫本体上等距离的开设有活动孔,活动孔内活动连接有凸起柱,所述凸起柱包括连接柱、凸起块和支撑块,连接柱贯穿活动孔。本可调节面型的抛光垫,采用抛光垫本体和螺纹安装圈分体式结构,安装后螺纹安装圈内嵌在抛光垫本体内,不影响整体使用,另外在抛光垫本体上开设活动孔,活动连接凸起柱,使得凸起块构成的抛光面型可调,结构简单,在螺纹安装圈内安装定型装置,定型装置内部设置有磁铁,方便固定支撑块,防止支撑块脱离定型装置,使用方便,便于固定。

技术领域

本实用新型涉及抛光垫技术领域,具体为一种可调节面型的抛光垫。

背景技术

抛光垫也有人称它为抛光皮、抛光布、抛光片等,表面结构分为平面型、网格型和螺旋线型等,是化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料。它的主要作用如下:(1)把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;(2)将抛光后便化学反应充分进行的反应物、碎屑等顺利排出,达到去除效果;(3)维持抛光垫表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行;(4)保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的晶片表面形貌;因此,设计一种更好地发挥以上作用的抛光垫势在必行。

中国专利CN210414071U公开一种多层结构的抛光垫,从上至下依次设有亲水聚酰胺层、热塑性聚氨酯层和聚氯乙烯层,亲水聚酰胺层表面含有若干凸起单元,每个凸起单元包括矩形阵列形成的小凸起以及围绕该小凸起设置的大凸起,每个凸起单元之间距离大于每个凸起单元内小凸起之间的距离,大凸起的高度和小凸起的高度一致;小凸起之间以及凸起单元之间构成相互连通的网格状凹槽;大凸起和/或小凸起上表面设有若干储液微孔;该实用新型能够有效延长使用寿命,而且能够避免大料屑在抛光垫上残留影响抛光质量。

该申请虽然在一定程度上解决了背景技术中的问题,但是该申请中抛光垫的型面固定,不适用曲面的抛光。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可调节面型的抛光垫,具有可以调节面型,适用于曲面抛光的优点,解决了现有技术中的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种可调节面型的抛光垫,包括抛光垫本体,所述抛光垫本体下表面的一周固定连接有螺纹固定圈,螺纹固定圈的内壁通过螺纹啮合有螺纹安装圈,抛光垫本体上等距离的开设有活动孔,活动孔内活动连接有凸起柱,所述凸起柱包括连接柱、凸起块和支撑块,连接柱贯穿活动孔,连接柱置于螺纹固定圈内部的位置上固定连接有支撑块,连接柱的另一端固定连接有凸起块,所述螺纹安装圈的内圈上固定连接有第一限位圈,第一限位圈一侧的螺纹安装圈上对称开设有卡合凹槽,卡合凹槽内卡合连接有定型装置,所述定型装置的一周固定连接有第二限位圈,第二限位圈的两侧对称连接有延伸端,延伸端与卡合凹槽卡合连接,定型装置的一侧开设有进液口。

优选的,所述凸起块和支撑块的直径均大于连接柱的直径,连接柱的直径与活动孔的直径相匹配。

优选的,所述凸起块远离连接柱的一端设置有第一弧面结构。

优选的,所述支撑块远离连接柱的一端设置有第二弧面结构,第二弧面结构内嵌有磁铁,第二弧面结构与定型装置的表面吸合连接。

优选的,所述定型装置为球面结构,定型装置内部设置有磁铁。

优选的,所述第二限位圈与第一限位圈直径、宽度相同,第二限位圈与第一限位圈贴合连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

本可调节面型的抛光垫,采用抛光垫本体和螺纹安装圈分体式结构,安装后螺纹安装圈内嵌在抛光垫本体内,不影响整体使用,另外在抛光垫本体上开设活动孔,活动连接凸起柱,使得凸起块构成的抛光面型可调,结构简单,在螺纹安装圈内安装定型装置,定型装置内部设置有磁铁,方便固定支撑块,防止支撑块脱离定型装置,同时根据定型装置的凹面或者凸面实现连接柱的自动调整,使用方便,便于固定。

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