[实用新型]一种可处理高反材料的激光装置有效

专利信息
申请号: 202120568876.1 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN215145662U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 刘梦寒;龚凯;卢国杰;韩金龙;牛增强 申请(专利权)人: 深圳市联赢激光股份有限公司
主分类号: B23K26/02 分类号: B23K26/02;B23K26/70
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摘要:
搜索关键词: 一种 处理 材料 激光 装置
【说明书】:

本实用新型公开了一种可处理高反材料的激光装置,属于反射光处理技术领域,本实用新型为解决切割或焊接时反射光烧毁激光器前端光路器件的问题而设计。本实用新型包括:指示光激光器、反向剥模器、泵浦源、合束器、高反光栅、增益光纤、低反光栅、反向合束器、剥模器、反射光衰减器和光纤输出器构成。本实用新型会将大量纤芯光传输到包层中,通过剥除技术将包层光剥离,最终达到保护光路的目的。

技术领域

实用新型涉及反射光处理技术领域,尤其涉及一种可处理高反材料的激光装置。

背景技术

激光装置,例如光纤激光器在实际应用中会切割或焊接高反材料,但是目前光纤激光器的抗反射光性能远远不能达到实际使用要求,导致在应用中光纤激光器因反射光过大烧毁器件。

反射光主要是在切割的穿孔阶段和整个焊接过程中存在,当激光输出头垂直于高反材料加工平面时,有很大一部分反射光耦合进光纤的纤芯中,并沿激光器光路反向传输,当反射光过大时,会导致光纤激光器前端光路器件损毁,进而导致光纤激光器失效。

反射光问题不仅限制了光纤激光器的实际应用,同时会影响光纤激光器的稳定运行,缩短光纤激光器的使用寿命。

发明内容

有鉴于此,本实用新型为解决切割或焊接时反射光烧毁激光器前端光路器件的问题而提供以下技术方案:

提供一种可处理高反材料的激光装置,所述激光装置由指示光激光器、反向剥模器、正向泵浦源、正向合束器、高反光栅、增益光纤、低反光栅、反向合束器、正向剥模器和光纤输出器构成;

所述激光装置的光路传输方向与所述指示光激光器传输方向一致,当所述指示光激光器工作后,经由所述反向剥模器、所述正向泵浦源、所述正向合束器、所述高反光栅、所述增益光纤、所述低反光栅、所述反向合束器、所述正向剥模器,最终通过所述光纤输出器输出。

可选的,所述反向合束器靠近所述正向剥模器的一端连接有反向泵浦源。

可选的,所述激光装置还包括反射光衰减器,所述反射光衰减器位于所述反向剥模器与所述指示光激光器之间。

可选的,所述反射光衰减器包括反射光衰减段,所述反射光衰减段由输入段光纤、中段光纤和输出段光纤构成,其中,反射光传输方向为:输入段光纤的初端-输入段光纤的终端-中段光纤-输出段光纤的初端-输出段光纤的终端。

可选的,所述反射光衰减器工作时,纤芯反射光通过所述输入段光纤输入,在通过所述输入段光纤与所述中段光纤的锥区时,纤芯反射光的模场面积从所述输入段光纤逐增为所述中段光纤的纤芯模场面积,在通过所述中段光纤与所述输出段光纤的锥区时,所述中段光纤逐减为所述输出段光纤的纤芯模场面积。

可选的,所述正向合束器信号光纤为纤芯20μm、包层400μm,即所述正向合束器信号光纤为20/400双包层光纤纤芯,涂覆层为530μm,NA为0.07;

所述反射光衰减器的所述输入段光纤为20/400双包层光纤,纤芯NA为0.07;

所述中段光纤为50/400双包层光纤,纤芯NA为0.12;

所述输出段光纤为20/400双包层光纤,纤芯NA为0.07,纤芯反射光通过所述反射光衰减器后,经测试衰减系数可达4dB。

可选的,合束器信号光纤为20/400双包层光纤,纤芯NA为0.07;

所述反射光衰减器输入段光纤为20/400双包层光纤,纤芯NA为0.07;

所述中段光纤为50/70/360三包层光纤,纤芯NA为0.22;

输出段光纤为20/400双包层光纤,纤芯NA为0.07,纤芯反射光通过反射光衰减器后,经测试衰减系数可达8dB。

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