[实用新型]一种高抗光损伤阈值RTP开关有效
申请号: | 202120541613.1 | 申请日: | 2021-03-16 |
公开(公告)号: | CN214280417U | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 赵修强;冯骥;翟娜娜;周婧 | 申请(专利权)人: | 山东辰晶光电科技有限公司 |
主分类号: | H01S3/115 | 分类号: | H01S3/115 |
代理公司: | 天津市君砚知识产权代理有限公司 12239 | 代理人: | 张东浩 |
地址: | 250000 山东省济南市历*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高抗光 损伤 阈值 rtp 开关 | ||
本实用新型公开了一种高抗光损伤阈值RTP开关,一种高抗光损伤阈值RTP开关,包括开关底座和晶体元件,所述开关底座一侧设置有固定轴,所述固定轴下方设置有接铸件,所述固定轴内侧固定有连接件,所述连接件一侧连接有高抗光元件,所述高抗光元件一侧设置有所述晶体元件,所述固定轴上方设置有电极接口A,所述电极接口A一侧设置有电极接口B,所述电极接口A和所述电极接口A外侧设置有相位补偿片,所述晶体元件前方设置有前通透晶体,所述晶体元件后方设置有后通透晶体,所述晶体元件上层设置有V+层,所述晶体元件下方设置有V‑层,所述电极接口A和所述电极接口A下方设置有金属套环,本实用新型高抗光损伤阈值,高消光比。
技术领域
本实用新型涉及一种RTP开关,具体为一种高抗光损伤阈值RTP开关。
背景技术
电光开关是激光系统的重要单元 ,利用它可以从锁模序列中选出单脉冲 ,可以对调 Q脉冲进行削波 ,它也是电光隔离器中不可缺少的元件。 电光开关性能的不断改进,对一个激光系统提高输出的成功率、稳定性起着十分关键的作用 ,合理地选择电光材料是提高开关性能的有效途径之一。 KDP和 LiNbO3 是目前广泛应用于普克尔盒的电光材料,但它们都有缺点。LiNbO3晶体普克尔盒有低的半波电压 ,也不潮解 ,但由于它的光学破坏阈值低 ,限制了它在高峰值功率激光系统中的应用 ,压电效应引起的声光作用使LiNbO3晶体在高重复率激光系统中的运用变得复杂。KDP晶体普克尔盒虽然也有较高的光学破坏阈值 ,但半波电压相对较高 ,还潮解 ,使用时需要密封在一个盒子内 ,在端面镀增透膜和加折射率匹配材料 ,进一步增加了器件的插入损耗。
RTP(磷酸钛氧铷)晶体属KTP族晶体,因其良好的电学与光学性能,包括较高的电阻率,但是由于消光比降低,严重影响了调Q效率,且大量的入射光被RTP晶体吸收,致使其温度上升,大大增加了这种结构的RTP电光调Q开关的不稳定性,并且目前的RTP开关没有体现出高抗光和损伤阈值等结合特性,所以急需一种高抗光损伤阈值RTP开关。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种高抗光损伤阈值RTP开关,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种高抗光损伤阈值RTP开关,一种高抗光损伤阈值RTP开关,包括开关底座和晶体元件,所述开关底座一侧设置有固定轴,所述固定轴下方设置有接铸件,所述固定轴内侧固定有连接件,所述连接件一侧连接有高抗光元件,所述高抗光元件一侧设置有所述晶体元件,所述固定轴上方设置有电极接口A,所述电极接口A一侧设置有电极接口B,所述电极接口A和所述电极接口A外侧设置有相位补偿片,所述晶体元件前方设置有前通透晶体,所述晶体元件后方设置有后通透晶体,所述晶体元件上层设置有V+层,所述晶体元件下方设置有V-层,所述电极接口A和所述电极接口A下方设置有金属套环。
优选的,所述接铸件设置在所述开关底座和所述固定轴外侧,保证了开关的稳定性。
优选的,所述高抗光元件固定在所述连接件和所述晶体元件之间,方便进行电性连接。
优选的,所述金属套环外层与所述相位补偿片连接,实现了相位补偿。
优选的,所述前通透晶体和所述后通透晶体为高抗光晶体,实现了高抗光的特性。
优选的,所述晶体元件的电阻率约1011-1012Ωcm和抗光损伤阈值,实现了抗光损伤阈值。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型高重复频率电光应用的优良晶体,实现了较大的非线性光学和电光系数,无压电振荡效应,不潮解,高抗光损伤阈值,高消光比,综合了许多优点 ,如半波电压低、光学破坏阈值高、插入损耗小以及不明显的由压电效应引起的声光作用。
附图说明
图1为本实用新型整体结构图;
图2为本实用新型晶体元件结构图。
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