[实用新型]一种高抗光损伤阈值RTP开关有效

专利信息
申请号: 202120541613.1 申请日: 2021-03-16
公开(公告)号: CN214280417U 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 赵修强;冯骥;翟娜娜;周婧 申请(专利权)人: 山东辰晶光电科技有限公司
主分类号: H01S3/115 分类号: H01S3/115
代理公司: 天津市君砚知识产权代理有限公司 12239 代理人: 张东浩
地址: 250000 山东省济南市历*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 高抗光 损伤 阈值 rtp 开关
【说明书】:

实用新型公开了一种高抗光损伤阈值RTP开关,一种高抗光损伤阈值RTP开关,包括开关底座和晶体元件,所述开关底座一侧设置有固定轴,所述固定轴下方设置有接铸件,所述固定轴内侧固定有连接件,所述连接件一侧连接有高抗光元件,所述高抗光元件一侧设置有所述晶体元件,所述固定轴上方设置有电极接口A,所述电极接口A一侧设置有电极接口B,所述电极接口A和所述电极接口A外侧设置有相位补偿片,所述晶体元件前方设置有前通透晶体,所述晶体元件后方设置有后通透晶体,所述晶体元件上层设置有V+层,所述晶体元件下方设置有V‑层,所述电极接口A和所述电极接口A下方设置有金属套环,本实用新型高抗光损伤阈值,高消光比。

技术领域

本实用新型涉及一种RTP开关,具体为一种高抗光损伤阈值RTP开关。

背景技术

电光开关是激光系统的重要单元 ,利用它可以从锁模序列中选出单脉冲 ,可以对调 Q脉冲进行削波 ,它也是电光隔离器中不可缺少的元件。 电光开关性能的不断改进,对一个激光系统提高输出的成功率、稳定性起着十分关键的作用 ,合理地选择电光材料是提高开关性能的有效途径之一。 KDP和 LiNbO3 是目前广泛应用于普克尔盒的电光材料,但它们都有缺点。LiNbO3晶体普克尔盒有低的半波电压 ,也不潮解 ,但由于它的光学破坏阈值低 ,限制了它在高峰值功率激光系统中的应用 ,压电效应引起的声光作用使LiNbO3晶体在高重复率激光系统中的运用变得复杂。KDP晶体普克尔盒虽然也有较高的光学破坏阈值 ,但半波电压相对较高 ,还潮解 ,使用时需要密封在一个盒子内 ,在端面镀增透膜和加折射率匹配材料 ,进一步增加了器件的插入损耗。

RTP(磷酸钛氧铷)晶体属KTP族晶体,因其良好的电学与光学性能,包括较高的电阻率,但是由于消光比降低,严重影响了调Q效率,且大量的入射光被RTP晶体吸收,致使其温度上升,大大增加了这种结构的RTP电光调Q开关的不稳定性,并且目前的RTP开关没有体现出高抗光和损伤阈值等结合特性,所以急需一种高抗光损伤阈值RTP开关。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种高抗光损伤阈值RTP开关,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种高抗光损伤阈值RTP开关,一种高抗光损伤阈值RTP开关,包括开关底座和晶体元件,所述开关底座一侧设置有固定轴,所述固定轴下方设置有接铸件,所述固定轴内侧固定有连接件,所述连接件一侧连接有高抗光元件,所述高抗光元件一侧设置有所述晶体元件,所述固定轴上方设置有电极接口A,所述电极接口A一侧设置有电极接口B,所述电极接口A和所述电极接口A外侧设置有相位补偿片,所述晶体元件前方设置有前通透晶体,所述晶体元件后方设置有后通透晶体,所述晶体元件上层设置有V+层,所述晶体元件下方设置有V-层,所述电极接口A和所述电极接口A下方设置有金属套环。

优选的,所述接铸件设置在所述开关底座和所述固定轴外侧,保证了开关的稳定性。

优选的,所述高抗光元件固定在所述连接件和所述晶体元件之间,方便进行电性连接。

优选的,所述金属套环外层与所述相位补偿片连接,实现了相位补偿。

优选的,所述前通透晶体和所述后通透晶体为高抗光晶体,实现了高抗光的特性。

优选的,所述晶体元件的电阻率约1011-1012Ωcm和抗光损伤阈值,实现了抗光损伤阈值。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型高重复频率电光应用的优良晶体,实现了较大的非线性光学和电光系数,无压电振荡效应,不潮解,高抗光损伤阈值,高消光比,综合了许多优点 ,如半波电压低、光学破坏阈值高、插入损耗小以及不明显的由压电效应引起的声光作用。

附图说明

图1为本实用新型整体结构图;

图2为本实用新型晶体元件结构图。

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