[实用新型]一种淋釉器

说明书

本实用新型公开了一种淋釉器，包括淋釉板和向所述淋釉板输送釉浆的上釉机构；其中，所述上釉机构包括与所述淋釉板对应设置的布釉辊和用于调节上釉量的计量辊和挡釉板，所述布釉辊和计量辊的两侧设有所述挡釉板，所述计量辊、布釉辊和挡釉板之间形成用于缓存釉浆的蓄釉池；所述蓄釉池内的釉浆通过粘附转动的布釉辊，移至所述淋釉板处。采用本实用新型，结构简单，釉浆不易发生沉淀，且淋釉量的控制精度高。

技术领域

本实用新型涉及料框领域，尤其涉及一种淋釉器。

背景技术

现有的淋釉技术，一般为钟罩式淋釉技术和直线式淋釉技术。对于钟罩式淋釉方式，其釉浆经钟罩面的均化缓流后再对砖胚进行淋釉处，但钟罩的淋釉边缘为圆弧线(非直线)，故在淋釉的过程中会导致砖胚的中部釉浆量比两侧少，从而使砖胚的釉面厚度不均匀。特别是，用于喷墨打印机加工的瓷砖，其对砖面(釉面)的平整度要求高。同时钟罩式的施釉量不能过小，否则釉浆比重过低或流动性过小时容易在钟罩面上形成波纹，且不容易形成釉幕(没粘性)。

而对于直线式淋釉技术，由于其采用的出釉方式是通过对釉浆加压然后通过一缝隙喷出，虽然该淋釉方式能较为均匀地在砖胚上淋釉，但该方式不仅容易堵塞釉嘴，而且，经过加压喷出的釉浆其出釉的状态属于湍流状态，其淋釉于砖胚面时冲击大，会出现釉面不顺滑和条纹等问题。同时喷釉口的间隙不仅对淋釉量的直接影响关系大，而且难以均匀地调整。

而且，釉浆属于易于凝结物，特别是，静止状态或流动过慢的釉浆特别容易凝结。因此，现有的技术往往需要额外增设搅动装置，以缓解釉浆的凝结问题，从而增大了设备的结构复杂性和后期维护成本。

另一方面，上述两种淋釉技术的淋釉量的控制精度低，如从釉浆输出源头方面上控制，所述钟罩式是通过改变淋与钟罩面的泵釉量，直线式是通过改变喷釉压力。故现有淋釉量的控制一般为在淋釉设备稳定工作状态下，根据实际淋釉量的测算而改变用于运输砖胚的运输带的运输速度(淋釉时间)进行调控。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题在于，提供一种淋釉器，结构简单，釉浆不易发生沉淀，且淋釉量的控制精度高。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种淋釉器，包括淋釉板和向所述淋釉板输送釉浆的上釉机构；

其中，所述上釉机构包括与所述淋釉板对应设置的布釉辊和用于调节上釉量的计量辊和挡釉板，所述布釉辊和计量辊的两侧设有所述挡釉板，所述计量辊、布釉辊和挡釉板之间形成用于缓存釉浆的蓄釉池；

所述蓄釉池内的釉浆通过粘附转动的布釉辊，移至所述淋釉板处。

作为上述方案的改进，所述淋釉器还包括用于向所述蓄釉池补充釉浆的釉浆容器，所述釉浆容器设有用于释放釉浆的下釉管，所述下釉管对应设于所述蓄釉池的上方。

作为上述方案的改进，所述布釉辊的最高点高于所述计量辊的最高点，以使所述蓄釉池的液面最大高度为所述计量辊的最高点。

作为上述方案的改进，所述布釉辊的直径大于所述计量辊的直径。

作为上述方案的改进，所述淋釉器还包括用于蓄釉槽，所述蓄釉槽对应设于所述上釉机构的下方，以回收从所述蓄釉池流出的釉浆。

作为上述方案的改进，所述淋釉器还包括回釉泵，所述蓄釉槽设有与所述回釉泵连通的回釉口，所述蓄釉槽内的釉浆通过所述回釉泵输送至所述釉浆容器内。

作为上述方案的改进，所述布釉辊的辊面的粘附系数大于所述计量辊的辊面的粘附系数。

作为上述方案的改进，所述下釉管设有出釉缝隙，所述出釉缝隙内设有用于改变所述出釉量的挡板，所述下釉管安装有用于移动所述挡板的螺杆，所述螺杆的一端与所述挡板相抵触。

作为上述方案的改进，所述布釉辊和计量辊之间留有预设间距的蓄油缝隙。