[发明专利]镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法

说明书

本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。

技术领域

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法。

背景技术

真空镀膜技术广泛用于改善原有工件材料的特性和丰富其功能。其主要技术是在真空条件下，利用磁控溅射、电阻蒸发镀膜、电子束蒸发镀膜等技术，在材料表面上沉积金属、合金、氧化物或者化合物等功能性薄膜，从而提高材料性能。

在单一腔体的真空镀膜设备中，一般是先将镀膜材料制作成靶材或膜料，然后放置在镀膜材料腔室内进行使用；由于真空镀膜设备在每次镀膜过程结束后，都需要打开真空腔室取出工件，在此过程中容易使得镀膜材料暴露在空气下，镀膜材料极其容易与空气中的氧气、二氧化碳、水蒸气等物质发生化学反应，或者吸附在镀膜材料表面造成污染。

目前，市面上常用技术是对镀膜材料进行预处理后再进行正常的镀膜工艺，例如在真空溅射镀膜开始前，利用离子轰击靶材表面，清洁靶材表面的污染物，然后再进行镀膜，该处理过程非常耗时，且损耗靶材材料，成本较高。此外，也有技术是额外准备一个或多个真空腔室，作为进出工件的低真空腔室来保持真空腔室的高真空度，这种技术方案增加镀膜设备的占地面积和设备成本，极大地提高了生产成本。在配备多个镀膜材料的真空镀膜设备中，为了保护非使用状态下的镀膜材料，也有技术是在镀膜材料存放装置前设置挡板以减少污染。

在诸如上述技术方案中，在解决镀膜材料被污染方面起到了一定的积极作用，但存在成本较高的缺陷，且难以做到真正的完全杜绝污染的效果。

发明内容

本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一，提供一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，以防止镀膜材料被污染，提高镀膜效率，降低镀膜材料损失。

一种镀膜材料存放装置，应用于真空镀膜设备，包括：

连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；

设于所述密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；

连接所述真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭所述真空阀门；

连接所述驱动装置的控制装置，用于控制所述驱动装置在镀膜过程中打开所述真空阀门，在镀膜后关闭所述真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护。

在一个实施例中，所述的镀膜材料存放装置，还包括：连接所述密封腔室的抽气设备或充气设备，以及内置于所述密封腔室内的真空检测装置；

所述真空检测装置用于在所述真空阀门处于关闭状态下检测密封腔室的真空度，所述抽气设备用于从所述密封腔室抽气，所述充气设备用于向密封室注入惰性气体。

在一个实施例中，所述真空阀门包括真空插板阀、真空翻板阀或真空气动阀；所述驱动装置采用电动或者气动方式进行驱动。

在一个实施例中，所述镀膜材料存放装置在存放镀膜材料的位置附近设有供气口，用于注入惰性气体。

一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：真空腔室、镀膜材料存放装置、真空泵以及离子源；其中，

所述真空腔室内设置有工件挂装结构，用于放置镀膜的工件；