[发明专利]一种超疏水辐射降温多孔薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，将聚二甲基硅氧烷/水油包水乳状液浇铸后进行真空脱气处理；将真空脱气处理后的聚二甲基硅氧烷/水油包水乳状液进行热固化，得到内部含水的聚二甲基硅氧烷薄膜；去除内部含水的聚二甲基硅氧烷薄膜内部的水，得到内部具有微纳双级多孔结构的辐射降温薄膜；对内部具有微纳双级多孔结构的辐射降温薄膜表面进行打磨处理使其表面具有粗糙结构，得到一种超疏水辐射降温多孔薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷/水油包水乳状液的制备过程包括：

在持续搅拌下，将去离子水逐滴加入聚二甲基硅氧烷预聚体和固化剂的混合物中，搅拌均匀后得到所述聚二甲基硅氧烷/水油包水乳状液。

3.根据权利要求2所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，所述聚二甲基硅氧烷/水油包水乳状液中，聚二甲基硅氧烷和水的质量比为10:(9～13)。

4.根据权利要求1所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，进行热固化时，热固化温度为45～70℃。

5.根据权利要求1所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，进行热固化时，热固化时间为4.5～6.0h。

6.根据权利要求1所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，去除内部含水的聚二甲基硅氧烷薄膜内部的水时，将内部含水的聚二甲基硅氧烷薄膜于120～200℃下进行干燥，干燥时间为120～160min。

7.根据权利要求1所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜的制备方法，其特征在于，对内部具有微纳双级多孔结构的辐射降温薄膜表面进行打磨处理时，使用400～800目的砂纸对内部具有微纳双级多孔结构的辐射降温薄膜表面进行打磨处理。

8.采用权利要求1～8任意一项的制备方法制得的一种超疏水辐射降温多孔薄膜。

9.根据权利要求9所述的一种超疏水辐射降温多孔薄膜，其特征在于，所述超疏水辐射降温多孔薄膜对太阳光反射率为88.4％～95.1％，所述超疏水辐射降温多孔薄膜的中红外发射率为89.1％～93.1％，所述超疏水辐射降温多孔薄膜表面与水滴的接触角为154.0～165.7°，所述超疏水辐射降温多孔薄膜表面与水滴的滚动角为2.1～6.2°。