[发明专利]一种水下等离子体治理水体污染的装置与方法

说明书

本发明提供一种水下等离子体治理水体污染的装置与方法，涉及水体污染治理领域。该水下等离子体治理水体污染的装置，包括壳体，所述壳体的内壁固定连接有隔板，所述隔板的上方为气室，所述气室的内部设置有负极板，所述隔板的下方为发生腔室，所述发生腔室的内部设置有正极板，所述发生腔室的内部设置有筒体，所述筒体的外侧转动设置有离心叶轮，所述离心叶轮的外侧套接有气泡石，所述筒体的上顶壁固定连接有离心风扇，所述离心风扇的下方设置有发生器，所述离心风扇的侧壁固定连接有若干第二管，所述筒体的内壁上部固定连接有第三管。无需外部气源的供给，以及可以在不同的深度治理水体。

技术领域

本发明涉及水体污染治理技术领域，具体为一种水下等离子体治理水体污染的装置与方法。

背景技术

等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。等离子体可以应用于冶炼、喷涂、焊接，以及兴起的污染治理。通常采用，介质阻挡放电、滑动弧放电和高频放电的方式产生的等离子体电离有害物质，或者电离的物质氧化还原有害物质。

现有的等离子体水体污染治理设备中，利用等离子体发生装置，产生N、OH^-、O、H₂O₂、HO₂、O₃等活性粒子，实现对水中的污染物质进行氧化，实现污染治理。

等离子体水体污染治理设备需要外源的气体。通常有两种形式，一种是置等离子体发生装置于地面，引入空气或其他气源，对气体电离产生等离子体，并将其泵送至水中进行净化处理，另一种是等离子体发生装置置于水中，并在电离处泵入气体，获取所需等离子体。需要外源的气体，使得装置的复杂程度提高，同时装置可处理的水深有限制。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种水下等离子体治理水体污染的装置与方法，解决了等离子体水治理设备需要外源的气体的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种水下等离子体治理水体污染的装置，包括壳体，所述壳体的内壁固定连接有隔板，所述隔板的上方为气室，所述气室的内部设置有负极板，所述隔板的下方为发生腔室，所述发生腔室的内部设置有正极板；

所述发生腔室的内部设置有筒体，所述筒体的外侧转动设置有离心叶轮，所述离心叶轮的外侧套接有气泡石，所述筒体的上顶壁固定连接有离心风扇，所述离心风扇的下方设置有发生器，所述离心风扇的侧壁固定连接有若干第二管，所述第二管的另一端延伸至气泡石的内部，所述筒体的内壁上部固定连接有第三管，所述第三管的另一端向下延伸，并靠近筒体的底部。

优选的，所述发生器包括固定板，所述固定板的边缘固定与筒体的内壁固定连接，所述固定板的下端中部固定连接有第二电极柱，围绕所述第二电极柱设置有第一电极柱，所述第一电极柱固定于固定板上。

优选的，所述正极板的中部固定连接有超声波雾化器，所述正极板位于筒体的下方。

优选的，所述壳体的下端固定连接有驱动电机，所述驱动电机的上端延伸设置有电机轴，且电机轴固定连接有连轴件，所述连轴件的另一端和离心叶轮固定连接。

优选的，所述隔板上固定连接有气阀，所述气阀连通气室和发生腔室。

优选的，所述壳体的下部侧壁设置有第一孔，所述第一孔位于连轴件处，所述壳体的下部侧壁色合作有第二孔，所述第二孔位于离心叶轮处。

优选的，所述壳体的下部侧壁设置有第三孔，所述第三孔位于气室的下部。

优选的，所述壳体的上端固定连接有线缆，所述线缆上缠绕设置有第一管，所述第一管和气室连通。

一种水下等离子体治理水体污染的方法，包括以下内容：