[发明专利]用于使用两用照明器进行成像的系统、方法和装置在审
| 申请号: | 202111585205.7 | 申请日: | 2021-12-22 |
| 公开(公告)号: | CN114663638A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
| 发明(设计)人: | 埃里克·范霍恩;格雷戈里·鲁布林格 | 申请(专利权)人: | 手持产品公司 |
| 主分类号: | G06V10/14 | 分类号: | G06V10/14;G06V10/141;G06V30/142 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李晨;张一舟 |
| 地址: | 美国南卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 使用 两用 明器 进行 成像 系统 方法 装置 | ||
本发明题为用于使用两用照明器进行成像的系统、方法和装置。本公开的实施方案整体涉及成像设备和标记读取设备。一种成像装置包括:图像传感器;光学窗口,该光学窗口定位在该图像传感器的前面;和光源,该光源包围该光学窗口的周边,使得该光源的照明锥与该成像装置的近视场锥的一部分重叠。该近视场锥的该部分从该光学窗口的表面延伸到距该光学窗口阈值距离处。该光源被配置为沿朝向待成像场景延伸的第一方向产生第一照明。
技术领域
本公开的实施方案总体涉及照明器和成像设备,并且更具体地涉及提供近场照明以及与图像捕获相关的一个或多个成功事件的指示的两用照明器。
背景技术
成像设备和系统已在比单纯的摄影更复杂和更先进的领域中得到应用。一直需要改进这些设备和系统的成像能力以适应支持新的能力。由于增加了越来越多支持新能力的部件,部件之间的干扰增加。然而,大多数旨在减少部件间干扰的解决方案会危及成像设备的性能和/或其他能力。在一些应用领域,成像设备可能因此类受损的能力而变得无效,从而降低成像设备可用的应用的多功能性。
发明内容
一般来讲,本文提供的本公开的实施方案被配置用于避免成像装置内部的照明和视场之间的干扰,并增强成像装置的成像能力。本文描述和示出的示例性实施方案提供了在近视场中提供改进的成像能力而不会导致照明溢出到成像传感器中的成像设备。本文描述的示例性实施方案还提供了一种具有环状或管道式照明源的成像装置,该环状或管道式照明源具有为近场中的成像提供照明和提供与图像捕获和/或标记读取相关的一个或多个成功事件的指示的双重目的。一些示例性实施方案针对一种简化的手持设备,该手持设备提供不会导致对视场产生干扰的照明器,从而为非常靠近手持设备的物体提供足够的照明。通过检查以下附图和详细描述,另选照明器和/或另选指示器中的一者或多者的其他具体实施对于本领域技术人员将是或将变得显而易见。本说明书内包括的所有此类附加具体实施均旨在处于本公开的范围内,并且受以下权利要求书的保护。
根据一些示例性实施方案,本文提供了一种成像装置。在示例性实施方案中,该成像装置包括:图像传感器,该图像传感器被配置为捕获场景的第一图像;和光学窗口,该光学窗口定位在图像传感器的前面。在一些示例性实施方案中,该光学窗口被配置为将入射光传输到图像传感器。该成像装置还包括光源,该光源包围光学窗口的周边,使得光源的照明锥与成像装置的近视场锥的一部分重叠。在示例性实施方案中,该近视场锥的该部分从光学窗口的表面延伸到距光学窗口阈值距离处。在一些示例性实施方案中,该光源被配置为沿朝向场景延伸的第一方向产生第一照明。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该成像装置进一步包括一个或多个处理器,该一个或多个处理器被配置为处理场景的第一图像以检测第一图像中的物体。该一个或多个处理器进一步确定第一图像中的物体与图案对准,并响应于确定物体与图案对准,控制光源来
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该光源在与成像装置的光轴成一定角度倾斜的平面内包围光学窗口的周边。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该第一照明照亮成像装置的近视场锥的部分的全部。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该第二方向与第一方向正交。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该第二照明与第一照明具有不同的波长。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该第二照明的亮度低于第一照明的亮度。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该物体包括可解码标记,并且该图案包括瞄准器投影。
附加地或另选地,在成像装置的一些实施方案中,该光源和该光学窗口位于成像装置的正面上。在一些示例性实施方案中,从待成像场景入射的光通过正面进入成像装置。
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