[发明专利]一种铜棒边缘处抛光设备在审
申请号: | 202111572495.1 | 申请日: | 2021-12-21 |
公开(公告)号: | CN114290165A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 许建中 | 申请(专利权)人: | 贵溪红石金属有限公司 |
主分类号: | B24B9/04 | 分类号: | B24B9/04;B24B41/04;B24B41/06;B24B47/04;B24B47/12;B24B55/04;B24B55/12 |
代理公司: | 南昌中擎知识产权代理事务所(普通合伙) 36148 | 代理人: | 韩平英 |
地址: | 335000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 边缘 抛光 设备 | ||
本发明公开了一种铜棒边缘处抛光设备,具体涉及铜棒抛光领域,包括支撑机构,支撑机构的顶部固定安装有用于给铜棒进行抛光处理的打磨机构,支撑机构的顶部设有用于控制打磨机构进行运作的调节机构,支撑机构包括操作台和支撑腿,操作台的水平向中心线上固定安装有用于托举铜棒的承托台,承托台的顶部设有用于卡紧铜棒的防护罩,防护罩的底部固定安装有多个用于与操作台相连接的第一弹簧,打磨机构包括第一承托型支架,第一承托型支架通过螺栓固定安装在操作台的顶部。本发明通过在打磨片的外壁设有集尘罩,使得在打磨片旋转的过程中,使铜屑快速进行集尘罩的内腔进行收集,从而避免碎屑乱溅情况的发生,更利于实际使用。
技术领域
本发明涉及铜棒抛光技术领域,更具体地说,本发明涉及一种铜棒边缘处抛光设备。
背景技术
铜棒是有色金属加工棒材的一种,具有较好的加工性能,高导电性能,所有元素都无一例外地降低铜棒的电导率和热导率,凡元素固溶于铜棒中,造成铜棒的晶格畸变,使自由电子定向流动时产生波散射,使电阻率增加,相反在铜棒中没有固溶度或很少固溶的元素,对铜棒的导电和导热影响很少,特别应注意的是有些元素在铜棒中固溶度随着温度降低而激烈地降低,以单质和金属化合物析出,既可固溶和弥散强化铜棒合金,又对电导率降低不多,这对研究高强高导合金来说,是重要的合金化原则。
传统在给铜棒边缘进行打磨抛光时,通常是由打磨片对铜棒进行反复摩擦,由于没有专门收集磨削产生的碎屑的装置,通常碎屑乱飞而影响工作人员的眼睛及鼻腔健康,所以本发明涉及了一种铜棒边缘处抛光设备来解决上述问题。
发明内容
为了克服现有技术的上述缺陷,本发明的实施例提供一种铜棒边缘处抛光设备,通过在打磨片的外壁设有集尘罩,使得在打磨片旋转的过程中,使铜屑快速进行集尘罩的内腔进行收集,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种铜棒边缘处抛光设备,包括支撑机构,所述支撑机构的顶部固定安装有用于给铜棒进行抛光处理的打磨机构,所述支撑机构的顶部设有用于控制打磨机构进行运作的调节机构,所述支撑机构包括操作台和支撑腿,所述操作台的水平向中心线上固定安装有用于托举铜棒的承托台,所述承托台的顶部设有用于卡紧铜棒的防护罩,所述防护罩的底部固定安装有多个用于与操作台相连接的第一弹簧,所述打磨机构包括第一承托型支架,所述第一承托型支架通过螺栓固定安装在操作台的顶部,所述第一承托型支架的顶部固定安装有第二承托型支架,所述第二承托型支架的一端固定安装有呈横向布置的第三承托型支架,所述第三承托型支架的一端设有第四承托型支架,所述第四承托型支架的一端设有多个用于打磨铜棒边缘的打磨片,所述第四承托型支架的一端转动连接有用于与打磨片相连接的第一限位型传动轮,所述打磨片的外壁固定安装有用于收集打磨碎渣的集尘罩,所述集尘罩的内部开设有进尘槽,所述调节机构包括电机,所述电机的输出轴端部固定连接有衔接型转杆,所述衔接型转杆的外壁固定安装有第三限位型传动轮,所述第三限位型传动轮的外壁啮合有用于与第一限位型传动轮相啮合的第一传送带。
在一个优选地实施方式中,所述操作台的顶部固定安装有用于安装防护挡板的防护栏,所述防护栏呈C字型设置,且所述防护栏的顶部开设有用于插接防护挡板的矩形插槽。
在一个优选地实施方式中,所述第四承托型支架的数量设置为两个,两个所述第四承托型支架关于第三承托型支架的竖直向中心线呈对称设置。
在一个优选地实施方式中,所述第三承托型支架设置在操作台的水平向中心面上,且所述第三承托型支架与防护罩在同一面上呈相对平行设置。
在一个优选地实施方式中,所述第四承托型支架的一端转动连接有第二限位型传动轮,所述第二限位型传动轮的一端固定安装有用于与第三承托型支架相连接的第一往复丝杆,所述第一往复丝杆移动在第三承托型支架的内腔。
在一个优选地实施方式中,所述集尘罩的一侧固定安装有多个悬杆,且多个所述悬杆的一端均固定安装有用于刮除铜棒外壁上碎屑的防护型刮板。
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