[发明专利]一种低湿气透过率的UV光固化组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种低湿气透过率的UV光固化组合物，由包括以下组分的原料制备而成：

丙烯酸酯单体25~30重量份；

聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物70~75重量份；

光引发剂3~5重量份；

链转移剂3~5重量份；

疏水性气相二氧化硅6~10重量份；

所述聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物由质量比为（2.5~4.5）：1的第一聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物和第二聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物组成；其中，所述第一聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物为疏水型聚丁二烯聚氨酯丙烯酸酯BR-641D，所述第二聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物为疏水型聚丁二烯聚氨酯丙烯酸酯BR-641E。

2.根据权利要求1所述的低湿气透过率的UV光固化组合物，其特征在于，所述丙烯酸酯单体选自丙烯酸异冰片酯、丙烯酸四氢呋喃酯、甲基丙烯酸甲酯、环三羟甲基丙烷甲缩醛丙烯酸酯、二苯氧基乙基丙烯酸酯、β-羟乙基丙烯酸酯和四氢化糠基(甲基)丙烯酸酯中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的低湿气透过率的UV光固化组合物，其特征在于，所述光引发剂选自自由基裂解型引发剂和夺氢型引发剂中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的低湿气透过率的UV光固化组合物，其特征在于，所述链转移剂选自叔胺类链转移剂和/或含酯类结构的硫醇。

5.根据权利要求1所述的低湿气透过率的UV光固化组合物，其特征在于，所述疏水性气相二氧化硅由质量比为（0.6~2）：1的第一疏水性气相二氧化硅和第二疏水性气相二氧化硅组成；

所述第一疏水性气相二氧化硅为表面经含丙烯酸酯基的硅烷或硅氧烷处理的疏水性气相二氧化硅，BET比表面积为125m²/g~175m²/g；

所述第二疏水性气相二氧化硅为疏水性热解法二氧化硅，BET比表面积为135m²/g~185m²/g。

6.一种权利要求1~5任一项所述的低湿气透过率的UV光固化组合物的制备方法，包括以下步骤：

a）将丙烯酸酯单体、聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物、光引发剂和链转移剂进行第一次混合，得到混合物；

b）在步骤a）得到的混合物中加入疏水性气相二氧化硅，进行第二次混合，脱泡后得到低湿气透过率的UV光固化组合物。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤a）中所述第一次混合的过程具体为：

将光引发剂溶解到其1.5倍~2.5倍质量的丙烯酸酯单体中，再加入聚丁二烯改性的聚氨酯丙烯酸酯低聚物、链转移剂和剩余的丙烯酸酯单体，在15r/min~25r/min下搅拌15min~20min，得到混合物。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤b）中所述第二次混合的过程具体为：

在得到的混合物中加入疏水性气相二氧化硅后，先在15r/min~25r/min下搅拌5min~15min，再在30r/min~40r/min下分散20min~30min，使各原料混合均匀。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤b）中所述脱泡的方式为真空脱泡；所述真空脱泡的真空度为-0.08MPa~-0.07MPa。