[发明专利]一种多光谱合成紫外光源模组及DLP面投影系统在审

专利信息
申请号: 202111520949.0 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114228147A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 翟金会 申请(专利权)人: 瑞迪光电(深圳)有限公司
主分类号: B29C64/277 分类号: B29C64/277;G03B21/20;B33Y30/00
代理公司: 深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504 代理人: 罗炳锋
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱 合成 紫外 光源 模组 dlp 投影 系统
【权利要求书】:

1.一种多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,包括有至少两个第一紫外光源(1)、至少一个第二紫外光源(2)、第一准直机构(3)、第二准直机构(4)和光束合成机构,至少两个第一紫外光源(1)的峰值波长不同,所述第二紫外光源(2)与所述第一紫外光源(1)的峰值波长不同,所述第一紫外光源(1)出射的光束经过所述第一准直机构(3)射入所述光束合成机构,所述第二紫外光源(2)出射的光束经过所述第二准直机构(4)射入所述光束合成机构,所述光束合成机构用于将所述第一紫外光源(1)出射的光束和所述第二紫外光源(2)出射的光束重叠成为同轴光束。

2.如权利要求1所述的多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,至少两个第一紫外光源(1)封装于同一基板上。

3.如权利要求1所述的多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,所述光束合成机构包括有一个二向色板(5),所述二向色板(5)用于反射至少两个第一紫外光源(1)出射的光束,以及用于透射至少一个第二紫外光源(2)出射的光束。

4.如权利要求1所述的多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,所述光束合成机构包括有两个二向色板(5),两个二向色板(5)之间形成有楔角(50),两个二向色板(5)分别用于反射两个第一紫外光源(1)出射的两个不同波长的光束,以及用于透射所述第二紫外光源(2)出射的光束。

5.如权利要求4所述的多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,两个第一紫外光源(1)的峰值波长分别为365nm和385nm,所述第二紫外光源(2)的峰值波长为405nm。

6.如权利要求4所述的多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,两个第一紫外光源(1)的峰值波长分别为365nm和425nm,所述第二紫外光源(2)的峰值波长为405nm。

7.如权利要求4所述的多光谱合成紫外光源模组,其特征在于,所述第一紫外光源(1)和所述第二紫外光源(2)的光谱带宽为15nm~25nm。

8.一种用于3D光固化打印的DLP面投影系统,其特征在于,包括有权利要求1至7任一项所述的紫外光源模组、第一匀光器(6)、第一聚焦光学机构(7)、第一DLP面板(8)、TIR棱镜机构(9)和投影机构(10),所述紫外光源模组出射的同轴光束依次通过所述第一匀光器(6)、所述第一聚焦光学机构(7)和所述TIR棱镜机构(9)射入所述投影机构(10),所述第一DLP面板(8)设于所述TIR棱镜机构(9)背向所述投影机构(10)的一侧;

所述DLP面投影系统用于实现整个面型图案的紫外固化,并通过预设执行机构的上提或下拉动作来完成逐层固化,进而实现树脂材料的3D光固化打印。

9.一种用于大幅面PCB板曝光刻蚀的DLP面投影系统,其特征在于,包括有权利要求1至7任一项所述的紫外光源模组、第二匀光器(11)、第二聚焦光学机构(12)、第二DLP面板(13)、DLP匀光照明机构(14)和PCB蚀刻投影机构(15),所述紫外光源模组出射的同轴光束依次通过所述第二匀光器(11)、所述第二聚焦光学机构(12)和所述DLP匀光照明机构(14)射入所述PCB蚀刻投影机构(15),所述第二DLP面板(13)设于所述DLP匀光照明机构(14)背向所述PCB蚀刻投影机构(15)的一侧;

所述DLP面投影系统用于实现光刻胶材料的整个面型刻蚀,并通过预设扫描机构的滚动扫描来实现大幅面PCB板的曝光刻蚀。

10.如权利要求8或9所述的DLP面投影系统,其特征在于,包括有至少2个DLP面投影系统,至少2个DLP面投影系统组成一个DLP面投影系统阵列,所述DLP面投影系统阵列用于实现面投影画面的拼接,再配合精密移动机构实现大幅面滚动扫描3D打印或PCB刻蚀。

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