[发明专利]一种石质彩绘加固显现的方法有效
申请号: | 202111511123.8 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN114161874B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 李玉虎;崔鑫;韩可竹;王瑞芳;特日格乐 | 申请(专利权)人: | 陕西师范大学 |
主分类号: | B44D7/00 | 分类号: | B44D7/00 |
代理公司: | 西安杜诺匠心专利代理事务所(普通合伙) 61272 | 代理人: | 苏雪雪 |
地址: | 710119 陕西省*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 彩绘 加固 显现 方法 | ||
一种石质彩绘加固显现的方法,包括步骤:将正硅酸乙酯加入无水乙醇,配制成TEOS乙醇溶液;将二水合草酸和磷酸溶解于无水乙醇中,配制成CB1加固剂;将八水合氢氧化钡与无水甲醇在隔绝空气及温度为60‑90℃的水浴条件下,配制成CB2加固剂;将三氟氯乙烯水性氟涂料采用去离子水稀释成浓度为1%‑6%的水溶液,搅拌至溶液均一得到水性氟溶液;取TEOS乙醇溶液喷涂于石质彩绘的加固区域进行预加固处理;循环使用CB1加固剂和CB2加固剂分别喷涂于预加固处理后的加固区域进行本体加固,循环次数为3‑6次;取水性氟溶液喷涂于已完成本体加固的加固区域,并自然风干。本发明的石质彩绘加固显现的方法具有增强力学强度、抑制可溶盐病害、耐候性强等有益效果。
技术领域
本发明涉及文物保护技术领域,具体涉及一种石质彩绘加固显现的方法,以应用于对石窟寺佛像彩绘的加固显现。
背景技术
我国现存的土遗址、砖石文物数量巨大,广泛分布于全国各地的自然环境,具有珍贵的文化价值、历史价值和艺术价值。截止第六批全国重点文物保护单位,现已公布的重要土遗址共有378处,分布于全国30个省(直辖市、自治区)。土遗址、砖石文物在我国古代文明进程中发挥了重要作用。
在陕西省境内,重要的土遗址、砖石文物有神木石峁遗址、榆林红石峡摩崖题刻、子长钟山石窟、韩城文庙及以砖石为底座的古建筑大雁塔、钟鼓楼、西安城墙等。由于绝大多数土遗址、砂石质摩崖题刻、石雕、城墙古砖长期暴露于野外的坏境,自然环境和人为因素对其破坏都特别严重,发生了非常严重的盐害腐蚀酥粉,亟须保护。其中榆林红石峡摩崖石刻表面有很多明显的雨水冲刷的痕迹,崖壁上出现众多形状不一、大小各异的风化洞、风化槽、风化沟;风化剥蚀也十分严重,多处字迹模糊难以辨认,有的已经消失,并以东崖风化尤为突出。子长钟山石窟中砂岩酥粉泛盐、风化溶蚀,其上绘制的极为珍贵的彩绘层也随之龟裂起翘、粉化剥离,50%以上已永远消失。
石窟寺的佛像文物是由颜料层、地杖层、岩石层三部分组成,而目前传统的石质文物保护材料组成成分单一,其使用的一种无机材料或者有机材料,不能够全面、系统对石质文物进行保护,可能还对石质文物容易发生二次病害。
发明内容
基于此,本发明提供了一种石质彩绘加固显现的方法,以对石窟寺佛像具有石质彩绘的文物进行针对性的保护,在提高文物的抗风化与盐害的基础上,显现表面的颜色,且采用的材料与文物兼容性好,不会发生二次病害。
为实现上述目的,本发明提供了一种石质彩绘加固显现的方法,其包括以下步骤:
(1)将正硅酸乙酯加入无水乙醇,配制成TEOS乙醇溶液;
(2)将二水合草酸和磷酸溶解于无水乙醇中,常温搅拌溶液至均一透明,配制成CB1加固剂;
(3)将八水合氢氧化钡与无水甲醇在隔绝空气及温度为60-90℃的水浴条件下,回流3-8小时至溶液澄清透明,冷却至室温后再加入无水甲醇,搅拌,配制成CB2加固剂;
(4)将三氟氯乙烯水性氟涂料采用去离子水稀释成浓度为1%-6%的水溶液,搅拌至溶液均一、稳定无絮状物析出为止,配制得到水性氟溶液;
(5)取TEOS乙醇溶液喷涂于石质彩绘的加固区域,以对加固区域进行预加固处理;
(6)循环使用CB1加固剂和CB2加固剂分别喷涂于预加固处理后的加固区域,以对加固区域进行本体加固,循环次数为3-6次,且每次喷涂CB1加固剂或CB2加固剂后,需等待加固区域干燥后才能进行下一次喷涂;
(7)取水性氟溶液喷涂于已完成本体加固的加固区域,并通过人为或自然干燥。
作为本发明的进一步优选技术方案,步骤(1)配制的TEOS乙醇溶液的浓度为3%-10%。
作为本发明的进一步优选技术方案,步骤(2)中,当无水甲醇的用量为1000ml时,二水合草酸的用量为10-30克,磷酸的用量为5-20ml。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西师范大学,未经陕西师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111511123.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。