[发明专利]一种基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、以废弃MBR膜组件作为基材，利用物理化学方法进行清洗、干燥，得到预处理后的MBR膜组件；

S2、将所述预处理后的MBR膜组件经光热改性溶液浸泡改性后，得到表面原位生长光热改性材料的MBR膜组件；

S3、通过表面涂覆方法将疏水聚合物固定于所述表面原位生长光热改性材料的MBR膜组件的表面，得到光热蒸发膜组件。

2.根据权利要求1所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述物理化学方法为物理曝气、高速水流正/反冲洗、酸性化学试剂或碱性化学试剂冲洗中的任意一种或多种的组合。

3.根据权利要求1所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S2具体包括：将所述预处理后的MBR膜组件依次置于聚合物A、聚合物B的溶液中进行浸泡处理，在膜表面原位生长光热改性材料，得到表面原位生长光热改性材料的MBR膜组件；

其中，所述聚合物A为过硫酸铵、高硫酸铵或二硫酸铵中的任意一种或多种的组合；

所述聚合物B为吡咯、苯胺或噻吩中的任意一种或多种的组合。

4.根据权利要求1所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S3具体包括：将所述步骤S2得到的表面原位生长光热改性材料的MBR膜组件置于疏水聚合物溶液中浸泡处理后，依次进行高温固定、水洗和干燥，得到光热蒸发膜组件；

其中，所述疏水聚合物为聚二甲基硅氧烷、三乙氧基氟硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷或十七氟癸基三乙氧基硅烷中的中的任意一种或多种的组合。

5.根据权利要求3所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S2中，聚合物A溶液的浓度为0.01～0.5wt％，温度为-5～25℃，浸泡时间为5min～2h；

聚合物B溶液的浓度为0.5～5vol％，温度为-5～25℃，浸泡时间为5min～2h。

6.根据权利要求4所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S3中，疏水聚合物溶液的浓度为0.1～5vol％，浸泡时间为10s～1h。

7.根据权利要求4所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述高温固定时，控制温度为60～120℃。

8.根据权利要求1所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述废弃MBR膜组件包括由编织管或针织管涂覆聚偏氟乙烯或聚氯乙烯中的任意一种或两种的组合。

9.一种光热蒸发膜组件，其特征在于，根据权利要求1-8任意一项所述的基于废弃MBR膜组件的光热蒸发膜组件的制备方法制得，且所述光热蒸发膜组件的光热蒸发效率为3.0～4.2kg/(m²·h)。

10.一种光热蒸发膜组件的应用，其特征在于，所述光热蒸发膜组件在处理污染海水、制药废水、有机溶剂蒸发、化工废水、反渗透浓废水、垃圾渗透液废水或污泥减量挤出浓废水中的应用。