[发明专利]铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法在审

专利信息
申请号: 202111497046.5 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114141540A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 王建中;陆云龙 申请(专利权)人: 南通海星电子股份有限公司;南通海一电子有限公司;宁夏海力电子有限公司
主分类号: H01G9/045 分类号: H01G9/045
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 226000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 铝电解电容器 高压 铝箔 均匀 腐蚀 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤(1)对铝箔光箔进行表面处理,清除表面油污,提高光箔表面活性;

步骤(2)预处理完成的铝箔进入液态掩膜剂槽内,在传动作用下,铝箔从掩膜槽拉出,同时表面附着一层掩膜剂,所述掩膜剂在铝箔表面附着形成掩膜层;

步骤(3)覆盖掩膜剂的铝箔进入干燥设备,经过干燥后,表面形成掩膜干膜;

步骤(4)通过使用预设好的图形对掩膜干膜进行曝光,使掩膜干膜面形成均匀的圆孔形状;

步骤(5)使用显影剂对步骤(4)中曝光完成的掩膜干膜进行显影,洗去掩膜干膜上的圆孔形状,露出均匀孔状的铝箔面;

步骤(6)将步骤(5)中的铝箔送入腐蚀槽,通过电化学腐蚀,所述电化学腐蚀采用直流电腐蚀,在铝箔正反表面形成均匀分布的腐蚀发孔。

2.根据权利要求1所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述铝箔厚度范围为50~150μm。

3.根据权利要求1所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述步骤(2)中所述的掩膜层厚度为1~2μm。

4.根据权利要求1所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述步骤(2)中的所述掩膜剂为液态耐酸碱感光抗蚀油墨。

5.根据权利要求4所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述液态耐酸碱感光抗蚀油墨的粘度为20mpa.s~40mpa.s;所述液态耐酸碱感光抗蚀油墨通过添加有机稀释剂调剂粘度。

6.根据权利要求1所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述步骤(3)中的烘干设备包括了垂直烘干设备和水平烘干设备,所述垂直烘干设备对铝箔进行预烘,预烘后,再进入充满氮气循环保护的水平烘干设备中,对铝箔进行烘干。

7.根据权利要求8所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述垂直烘干设备的烘干温度为90℃,烘干时间为30s;所述水平烘干设备的烘干温度为100~200℃,烘干时间为1min~2min。

8.根据权利要求1所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述步骤(4)中,所述曝光精度为1~5μm,曝光能量为500mJ~2000mJ。

9.根据权利要求1所述的一种铝电解电容器用高压铝箔掩膜均匀腐蚀发孔的制造方法,其特征在于,所述步骤(6)中所述的直流电腐蚀的腐蚀电流密度为0.05A/cm2~0.5A/cm2

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