[发明专利]雾化芯、雾化器及气溶胶发生装置

权利要求书

1.一种雾化芯，其特征在于，包括：

多孔体，表面形成有用于供气溶胶形成基质加热雾化的雾化面，所述多孔体具有微孔；以及

发热膜，用于在通电后加热并雾化气溶胶形成基质，所述发热膜设置于所述雾化面上，所述气溶胶形成基质可经由所述微孔传输至所述发热膜；

其中，所述发热膜上设置有贯通结构，所述雾化面上具有与所述贯通结构所在位置相对应的第一区域，以及被所述发热膜覆盖的第二区域，所述第一区域的微孔孔径大于所述第二区域的微孔孔径，以使所述第一区域的微孔向所述发热膜传输气溶胶形成基质的速率大于所述第二区域的微孔向所述发热膜传输气溶胶形成基质的速率。

2.如权利要求1所述的雾化芯，其特征在于，所述贯通结构为沿所述发热膜的厚度方向贯穿设置的孔状结构。

3.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述孔状结构为圆形通孔，所述圆形通孔的直径为0.2～0.8mm。

4.如权利要求2所述的雾化芯，其特征在于，所述孔状结构为条形孔，所述条形孔的孔宽为0.2～0.8mm。

5.如权利要求1至4任一项所述的雾化芯，其特征在于，所述贯通结构的数量设置为多个，多个所述贯通结构间隔分布于所述发热膜上，相邻两个所述贯通结构之间的间距相等。

6.如权利要求1至4任一项所述的雾化芯，其特征在于，所述雾化面上还设有用于储存气溶胶形成基质的盲槽结构，所述盲槽结构的设置位置与所述贯通结构的设置位置相对应，以使所述多孔体的吸液面至所述盲槽结构的槽底的最小距离小于所述吸液面至所述雾化面的最小距离。

7.如权利要求6所述的雾化芯，其特征在于，所述盲槽结构的深度为所述多孔体高度的1％～30％。

8.如权利要求1至4任一项所述的雾化芯，其特征在于，所述发热膜通过薄膜沉积工艺形成于所述雾化面上，所述发热膜的厚度为200～1000nm。

9.一种雾化器，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的雾化芯。

10.一种气溶胶发生装置，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的雾化芯或如权利要求9所述的雾化器。