[发明专利]一种光催化强化反硝化复合处理剂及其制备方法和应用有效
| 申请号: | 202111386472.1 | 申请日: | 2021-11-22 |
| 公开(公告)号: | CN114133042B | 公开(公告)日: | 2023-08-15 |
| 发明(设计)人: | 安晓强;边继踊;刘锐平;苗时雨;刘会娟;胡承志;曲久辉 | 申请(专利权)人: | 清华大学;中国科学院生态环境研究中心 |
| 主分类号: | C02F3/34 | 分类号: | C02F3/34;C02F3/28;C02F101/16;C02F101/30 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘二艳 |
| 地址: | 100091*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光催化 强化 硝化 复合 处理 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种光催化强化反硝化复合处理剂,其特征在于,所述光催化强化反硝化复合处理剂的制备原料为石墨相氮化碳、反硝化菌和溶剂,所述光催化强化反硝化复合处理剂中,反硝化菌的光吸收密度OD600为0.05-0.2;
所述石墨相氮化碳由含氮化合物经煅烧制备得到;
所述含氮化合物为三聚氰胺、单氰胺、双氰胺或尿素中的任意一种或至少两种的组合;
所述反硝化菌为脱氮副球菌、反硝化盐单胞菌或反硝化盐弧菌中的任意一种或至少两种的组合。
2.根据权利要求1所述的光催化强化反硝化复合处理剂,其特征在于,所述光催化强化反硝化复合处理剂中,石墨相氮化碳的浓度为50-200mg/L。
3.根据权利要求1所述的光催化强化反硝化复合处理剂,其特征在于,所述反硝化菌为脱氮副球菌。
4.根据权利要求1所述的光催化强化反硝化复合处理剂,其特征在于,所述溶剂为磷酸盐缓冲液、硼酸盐缓冲液、三羟甲基氨基甲烷缓冲液中的任意一种或至少两种的组合。
5.根据权利要求4所述的光催化强化反硝化复合处理剂,其特征在于,所述溶剂为磷酸盐缓冲液。
6.根据权利要求1所述的光催化强化反硝化复合处理剂,其特征在于,所述溶剂的pH为6.6-7.4。
7.一种根据权利要求1-6中任一项所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:将石墨相氮化碳、反硝化菌与溶剂混合,得到所述光催化强化反硝化复合处理剂。
8.根据权利要求7所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,所述石墨相氮化碳的制备方法包括以下步骤:将含氮化合物进行煅烧,得到所述石墨相氮化碳。
9.根据权利要求8所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,所述煅烧的温度为500-700℃,时间为2-4h。
10.根据权利要求8所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,所述煅烧的气体气氛包括空气、氮气、氩气或氢气中的任意一种。
11.根据权利要求8所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,所述煅烧采用的加热设备包括马弗炉或管式炉。
12.根据权利要求7所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,所述反硝化菌由反硝化菌菌种扩增得到,所述扩增包括以下步骤:
(1)将反硝化菌的菌种接种于灭菌后的培养基后,震荡培养,得到扩增反硝化菌培养液;
(2)将步骤(1)得到的扩增反硝化菌培养液离心,收集沉淀物,得到所述反硝化菌。
13.根据权利要求12所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述扩增反硝化菌培养液中反硝化菌的光吸收密度OD600大于1。
14.根据权利要求12所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述培养基包括LB液体培养基、营养肉汁培养基或月桂基硫酸盐胰蛋白胨肉汤中的任意一种。
15.根据权利要求12所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述震荡培养的温度为30-37℃,时间为20-40h。
16.根据权利要求12所述的光催化强化反硝化复合处理剂的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述离心的温度为2-6℃,时间为5-10min,转速为3000-6000rpm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;中国科学院生态环境研究中心,未经清华大学;中国科学院生态环境研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111386472.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:泉水与面源污水分流系统及其分流方法
- 下一篇:一种手腕部分舟骨置换假体





