[发明专利]一种高产原位钝化中红外HgTe胶体量子点制备方法有效

专利信息
申请号: 202111365400.9 申请日: 2021-11-17
公开(公告)号: CN113861985B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 严辉;刘泽慷;张永哲;王鹏 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C09K11/89 分类号: C09K11/89;B82Y30/00;B82Y20/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 高产 原位 钝化 红外 hgte 胶体 量子 制备 方法
【说明书】:

一种高产原位钝化中红外HgTe胶体量子点制备方法。属于胶体量子点合成领域。其中,合成过程采用热注射法,含卤素元素的HgI2作为Hg源的反应物,在反应时I原位生长在胶体量子点表面,在钝化表面的同时,起到调节掺杂的目的,达到p型掺杂效果。并且使用TMSTe作为Te源,由于其具有很高的反应活性,与Hg前驱体发生充分反应,不会与Hg形成络合物限制HgTe的产率。

技术领域

发明属于量子点技术领域,尤其涉及一种高产原位钝化中红外HgTe胶体量子点(CQDs)制备方法。

背景技术:

量子点(quantum dots,QDs)也称半导体纳米晶(seimconductor nanocrystals,NCs),是少量原子组成的、三个维度尺寸在1-100nm之间的零维纳米量子结构。在量子点中,原子数目通常在几个到几百个之间。根据量子力学理论,当量子点尺寸小于自身激子玻尔半径的2倍时,在三个维度方向上,量子点中的载流子能量必然是量子化的,态密度分布是一系列的分立函数,载流子在三个维度上受到势垒约束而不能自由运动。约束可以归结于静电势(由外部的电极、掺杂、应变、杂质等产生)、两种不同半导体材料的界面和半导体的表面,或者以上三者的结合。

胶体量子点(colloidal quantum dots,CQDs)在近30年的研究中展现出优异的光学特性,这都得益于其光学带隙可调、液相合成机加工、表面处理调节掺杂和能级偏移、堆积密度高、良好的柔性衬底相容性等特点,广泛应用在太阳能电池、光电探测器和LED等领域。HgTe材料是一种半金属体,原则上可以通过控制尺寸在整个红外范围内实现带隙可调,近些年在近红外、中红外、长波红外均有一定的研究。

而对于HgTe胶体量子点的合成方法,目前可分为水溶液合成法和热注射法两种。水溶液合成法是将H2Te气体通入溶入Hg源的去离子水溶液中,通过控制相应的反应温度和时间得到不同尺寸和带隙的HgTe CQDs,但是此方法制备的HgTe CQDs吸收带边只能到达2.5μm,中波以至于长波范围基本不能实现。而2011年Phillippe组采用热注射法,成功合成出带隙满足中红外波长的HgTe CQDs,但是产率较低,且尺寸分布较大。在2017年,采用TMSTe作为Te源,得到高产且尺寸分布小的n型HgTe CQDs。

发明内容:

针对现有的中红外HgTe CQDs掺杂方式的不足,多采用浓度梯度扩散掺杂的方式,在随后制备的结型器件中难以表现很好的整流特性。本发明提出了一种用HgI2作为Hg源,TMSTe作为Te源,并且依旧采用热注射的方法合成。其目的在于既可以控制较好的单分散性,又由于I-在量子点表面具有很强的结合能,可以在钝化表面的同时实现掺杂效果。而且制备工艺简便易于操作。

为了实现上述目的,本发明采用如下方案:

根据软硬酸碱理论,I-为软碱,Hg2+为软酸,所以HgI2中Hg+和I-的结合能很强,在前驱体溶液的制备过程需要升高温度将这种强键破坏掉。在反应过程中I-会吸附在HgTe胶体量子点表面,钝化表面并调节掺杂。并采用TMSTe作为反应物,不与Hg形成络合物,反应活性更高,合成后的HgTe胶体量子点质量满足化学计量比计算结果,表明充分反应,胶体量子点产率高。

一种制备高产率原位钝化的中红外HgTe胶体量子点(CQDs)方法,具体包括以下步骤:

(1)制备Hg前驱体溶液;

(2)配制Te前驱体溶液;

(3)待温度稳定后注入Te前驱体,同时控制温度和反应时间;

(4)反应结束停止加热,注入溶剂淬灭并水浴降温;

(5)提纯并溶解保存。

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