[发明专利]光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法

说明书

本发明公开了一种光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法，包括基膜、保护膜和光致聚合物信息层；光致聚合物信息层铺设在基膜上，保护膜盖覆在光致聚合物信息层上；光致聚合物信息层的厚度为3～25μm。本发明光致聚合物信息层的厚度为3～25μm，反射亮度高，并且光线也不容易被光致聚合物信息层自身吸收，光致聚合物信息层的衍射效率很高，亮度高，3D立体图案非常明亮、清晰，3D立体效果非常明显。其可以广泛应用于各种承印物中，实现非常明显3D全息显示效果。

技术领域

本发明涉及光致聚合物薄膜技术领域，尤其涉及一种光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法。

背景技术

随着光刻机应用广泛、效果增多，镭射膜层图案也越来越丰富多彩。烫印膜是现阶段非常流行和成熟的一种镭射产品与纸、膜、玻璃等承印物的完美结合。烫印膜断面清晰，转印后的承印物表面几乎没有凹凸感，这与镭射膜层的性能和厚度有关。

镭射膜层是表面浮雕型结构，厚度约1～2μm，可以通过雕刻镍板来模压生产，材料本身易碎。镭射膜层是表面浮雕结构，表面凸凹沟槽线条在1000线/mm左右；出于模压生产需求，其沟槽近乎垂直向上且不能太深、太细。这就决定了镭射膜层可以在白光下将图案表达的徇烂多彩，但3D立体效果不明显。

发明内容

本发明的目的是提供一种种光致聚合物薄膜及应用、光致聚合物承印物及制备方法，3D立体效果明显，可以广泛应用于各种承印物中实现3D全息显示效果。

本发明公开了一种一种光致聚合物薄膜，包括基膜、保护膜和光致聚合物信息层；光致聚合物信息层铺设在基膜上，保护膜盖覆在光致聚合物信息层上；光致聚合物信息层的厚度为3～25μm。

可选地，光致聚合物信息层的厚度为6～9μm。

可选地，光致聚合物信息层的分辨率在6000线/mm或以上。

本发明还公开了一种光致聚合物承印物的制备方法，包括：

步骤1：预模切光致聚合物薄膜，切断光致聚合物信息层，不切断保护膜；

步骤2：将模切后的光致聚合物信息层的信息区固化到承印物，剥除保护膜以及光致聚合物信息层的非信息区。

可选地，步骤1还包括：

预模切光致聚合物薄膜，切断基膜，并剥除基膜。

可选地，步骤2还包括：

在承印物的承印位置印刷或喷涂UV胶；

光致聚合物信息层的信息区粘接在承印物的承印位置上，并UV固化。

可选地，步骤1之前还包括：

剥除基膜；

在光致聚合物信息层上涂覆隔离保护层，并在隔离保护层上涂覆热熔胶。

可选地，步骤2还包括：

将光致聚合物信息层粘接在承印物上，并加热承印物的承印位置，光致聚合物信息层的信息区固化在承印物的承印位置上。

本发明还公开了一种如上的光致聚合物薄膜在承印物上的应用。

本发明还公开了一种光致聚合物承印物，包括承印物和光致聚合物信息层；光致聚合物信息层固化在承印物上，光致聚合物的厚度为3～25μm。

本发明光致聚合物信息层的厚度为3～25μm，反射亮度高，并且光线也不容易被光致聚合物信息层自身吸收，光致聚合物信息层的衍射效率很高，亮度高，3D立体图案非常明亮、清晰，3D立体效果非常明显。其可以广泛应用于各种承印物中实现非常明显3D全息显示效果。

附图说明