[发明专利]一种平板显示器用合金溅射靶材及其制备方法

说明书

本发明公开了一种平板显示器用合金溅射靶材，包括钼铌、细化晶粒剂、稀土元素改进剂和流动剂；钼铌、细化晶粒剂、稀土元素改进剂、流动剂的物质质量比为（9‑11）：（1‑4）：（1.5‑2.5）：0.5。本发明合金溅射靶材制备中，采用以钼铌为主要金属元素制备而成的平板显示器用合金溅射靶材；该靶材具有较高的密度以及延展性，进而保证了靶材中各成分的均匀性、减少靶材中气孔以及微裂纹的产生。

技术领域

本发明涉及平板显示器技术领域，具体涉及一种平板显示器用合金溅射靶材及其制备方法。

背景技术

镀膜平板显示器已经成为未来电视的主流是大势所趋，但在国际上尚没有严格的定义，一般这种显示屏厚度较薄，看上去就像一款平板，平板显示的种类很多，按显示媒质和工作原理分，有液晶显示(LCD)、等离子显示(PDP)、电致发光显示(ELD)、有机电致发光显示(OLED)、场发射显示(FED)、投影显示等。而平板显示器会采用合金溅射靶材溅射靶材，溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。溅射靶材有金属，合金，陶瓷化合物等。

现有的合金靶材在熔炼、制备中，会产生金属偏析，合金的晶粒尺寸增大，影响合金的产品性能。

发明内容

针对现有技术的缺陷，本发明的目的是提供一种平板显示器用合金溅射靶材及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。

本发明解决技术问题采用如下技术方案：

本发明提供了一种平板显示器用合金溅射靶材，包括钼铌、细化晶粒剂、稀土元素改进剂和流动剂；钼铌、细化晶粒剂、稀土元素改进剂、流动剂的物质质量比为（9-11）：（1-4）：（1.5-2.5）：0.5；

所述细化晶粒剂的制备方法为：

S1：熔炼处理：将Te、Mo按照重量比3:1混合，然后送入到熔炼炉中熔炼，至原料完全熔化；

S2：将熔炼的原料自然冷却成型，然后进行热轧冷轧处理：

S3：最后进行均匀化处理；

先于300-400℃下均匀化处理15-25min，处理结束，然后以1-3℃/min的速率自然冷却至200℃，继续保温10-30min，最后自然冷却至室温，即可。

优选地，所述稀土元素改进剂为稀土镧、TaC按照重量比2:1混合。

优选地，所述流动剂为硅粉。

优选地，所述热轧冷轧处理中热轧温度为500-800℃，热轧时间为15-25min，热轧变形率为30-50%，热轧结束；

然后于0-20℃下冷轧，冷轧时间为35-45min，冷轧变形率为10-20%。

一种平板显示器用合金溅射靶材的制备方法，包括以下步骤：

步骤一，熔炼处理：将钼铌、细化晶粒剂、稀土元素改进剂和流动剂送入到电弧熔炼炉中处理，至原料完全熔化，熔化后以100-500r/min的转速20-30min；

步骤二，将熔炼的原料送入到模具箱内加压冷却成型，加压压力为5-10MPa，保压10-20s，冷却温度以1-5℃/min的速率降温至室温，得到成型料；

步骤三，将成型料进行预改性处理：