[发明专利]一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液及其配置方法

权利要求书

1.一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，脱蜡修复阻断溶液中包括有脱蜡剂、抗原修复液和阻断剂。

2.根据权利要求1所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，脱蜡剂包括有水溶性脱蜡剂、渗透剂、分散剂、消泡剂和蒸馏水。

3.根据权利要求2所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，水溶性脱蜡剂为包含有PEG200、乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚的混合物；渗透剂选用Triton X-100和/或丙三醇；分散剂选用Tween-20和/或Triton X-100；消泡剂为乙二醇叔丁醚和/或聚氧丙烯甘油醚。

4.根据权利要求1或3所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，抗原修复液为柠檬酸和柠檬酸钠混合形成的柠檬酸钠缓冲液。

5.根据权利要求4所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，阻断剂采用高碘酸。

6.根据权利要求5所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，脱蜡修复阻断溶液包含如下体积的组分：

水溶性脱蜡剂：PEG200 0.25％-2.5％、乙二醇0.05％-0.75％、脂肪醇聚氧乙烯醚0.05％-0.75％

渗透剂：Triton X-100 0.1％-0.75％和/或丙三醇0.01％-0.5％

分散剂：Triton X-100 0.1％-0.75％和/或Tween-20 0.01％-0.05％

消泡剂：乙二醇叔丁醚0.01％-0.1％和/或聚氧丙烯甘油醚0.03％-0.05％

抗原修复液：柠檬酸1g/L-4g/L、柠檬酸钠10g/L-30g/L

阻断剂：高碘酸0.1%-0.75%。

7.根据权利要求6所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液，其特征在于，脱蜡修复阻断溶液包含如下体积的组分：

水溶性脱蜡剂：PEG200 0.5％、乙二醇0.5％、脂肪醇聚氧乙烯醚0.55％

渗透剂：Triton X-100 0.1％、丙三醇0.2％

分散剂：Tween-20 0.01％

消泡剂：乙二醇叔丁醚0.05％

抗原修复液：柠檬酸4g/L、柠檬酸钠30g/L

阻断剂：高碘酸0.5%。

8.一种如权利要求6或7所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液的制备方法，其特征在于，方法如下：

步骤一、配制抗原修复液：称取柠檬酸与柠檬酸钠溶解于蒸馏水中，充分溶解后，用盐酸调节溶液的pH值为6.0；

步骤二、依次量取水溶性脱蜡剂、渗透剂、分散剂、消泡剂、阻断剂加入到步骤一制得的抗原修复液中，充分搅拌溶解，即得低PH脱蜡修复阻断溶液。

9.一种如权利要求1-7任一所述的一种用于石蜡切片的低PH脱蜡修复阻断溶液在组织染色中的应用。