[发明专利]一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料及其制备方法

权利要求书

1.一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，将纳米氧化锡分散液和成膜粘合剂溶液混合制备得到混合液，向所述混合液中加入多孔材料进行浸渍，随后过滤、干燥，制备得到耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料。

2.根据权利要求1所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述纳米氧化锡分散液的粒径小于10nm，所述纳米氧化锡分散液的固含量为3-40％，所述成膜粘合剂溶液的固含量为5-40％，所述多孔材料为无机多孔材料，其孔径为2-100nm，浸渍时间为5-100min，浸渍温度为0-100℃，干燥温度为30-120℃，干燥时间4-100h。

3.根据权利要求1所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述纳米氧化锡分散液的粒径小于5nm。

4.根据权利要求1所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述纳米氧化锡分散液中的纳米氧化锡为纳米氧化锡和纳米掺杂氧化锡中的至少一种，所述纳米掺杂氧化锡的掺杂物和氧化锡质量比为0.1-15:100，所述掺杂物是金属氧化物或非金属材料。

5.根据权利要求4所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述掺杂物是氧化锑或氧化铋。

6.根据权利要求1所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述成膜粘合剂溶液为聚氨酯或硅溶胶。

7.根据权利要求1所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述多孔材料的形状为颗粒、块状、片状、棒状和球状中的至少一种，所述多孔材料比表面积≧30㎡/g，所述多孔材料最小的一维大于1mm。

8.根据权利要求1所述的一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料的制备方法，其特征在于，所述多孔材料为介孔硅胶、介孔沸石、介孔氧化铝、活性炭中的至少一种。

9.一种耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料，其特征在于，采用权利要求1-8任一项方法制得，其纳米氧化锡固含量、成膜粘合剂固含量和多孔材料的质量比为1-10：0.1—3：78-98。

10.根据权利要求1-8任一项制备的耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料或权利要求9中所述的耐水性纳米氧化锡宽光谱响应光触媒多孔材料，其应用于空气净化和水净化。