[发明专利]废液处理装置和涂胶显影设备在审
申请号: | 202111274858.3 | 申请日: | 2021-10-29 |
公开(公告)号: | CN113996092A | 公开(公告)日: | 2022-02-01 |
发明(设计)人: | 郭绪斌;郭生华 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
主分类号: | B01D21/02 | 分类号: | B01D21/02;B01D21/24;B01D21/00;G03F7/30 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 废液 处理 装置 涂胶 显影 设备 | ||
本发明提供了一种废液处理装置,包括收集部、沉积容器、废液导管、废液容器和排出部;所述收集部用于废液收集;所述沉积容器、所述废液导管和所述废液容器内部相通,实现废液从所述沉积容器经所述废液导管流入所述废液容器;所述排出部与所述废液容器内部相通,用于排出废液,实现易堆积的废料和不易堆积的废液相互分离,既有利于降低容器的更换频率,又有利于防止厂务管道堵塞。本发明还提供了一种涂胶显影设备,具有所述废液处理装置。
技术领域
本发明涉及半导体领域,尤其涉及废液处理装置和涂胶显影设备。
背景技术
在半导体领域,涂胶显影机一般采用两种排废液方式。图1展示了废液桶收集的方式,采用废液桶收集的方式需要经常更换废液收集桶。图2展示了采用厂务直排方式,该种方式光刻胶容易堆积在管路分叉处,导致排废液不畅,时间久了就会将整个厂务排废管路堵塞。
因此,有必要开发一种新型废液处理装置和涂胶显影设备,以避免现有技术存在的上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种废液处理装置和涂胶显影设备,能够降低更换废液收集桶的频率,并且不堵塞厂务排废管路。
为实现上述目的,本发明提供的废液处理装置包括收集部、沉积容器、废液导管、废液容器和排出部;所述收集部用于废液收集;所述收集部与所述沉积容器相通,使废液从所述收集部进入所述沉积容器;所述沉积容器远离其底部的位置设有废液流出口,所述废液容器上设有废液流入口;所述废液流出口的所在位置高于所述废液流入口的所在位置;所述废液导管连接所述废液流出口和所述废液流入口,使得所述沉积容器、所述废液导管和所述废液容器内部相通,实现废液从所述沉积容器经所述废液导管流入所述废液容器;所述排出部与所述废液容器内部相通,用于排出废液。
本发明提供的所述废液处理装置的有益效果在于:先通过所述收集部收集废液,再通过沉积容器将废液中的容易堆积在厂务管道分叉处的废料沉积在容器的底部,通过更换容器排出易堆积的废料;将不易堆积的废液通过废液导管从所述沉积容器导入所述废液容器,最终经所述排出部流入设备外的厂务管道,实现易堆积的废料和不易堆积的废液相互分离,既有利于降低废液收集桶的更换频率,又有利于防止厂务排废管道堵塞。
可选的,所述废液处理装置还包括壳体,所述沉积容器、所述废液导管和所述废液容器设置于所述壳体内。其有益效果在于:避免废液溅出所述废液处理装置。
可选的,所述收集部包括若干收集管道,所述若干收集管道固定设置于所述壳体,使所述沉积容器与所述壳体外部空间相互连通。其有益效果在于:便于装置外废液流入所述沉积容器。
可选的,所述排出部包括排出管道,所述排出管道固定设置于所述壳体,使所述废液容器与所述壳体外部空间相互连通。其有益效果在于:便于将所述废液容器内的废液排出装置。
可选的,所述废液处理装置还包括排气部,所述排气部设置于所述壳体,使所述壳体内外相通。其有益效果在于:有利于平衡壳体内外气压。
可选的,所述废液处理装置还包括固定组件,所述固定组件可拆卸连接所述沉积容器和所述壳体。其有益效果在于:有利于沉积容器和壳体连接稳固。
可选的,所述固定组件包括若干弹簧搭扣。
可选的,所述废液处理装置还包括密封件,所述密封件设置于所述沉积容器的靠近所述固定组件一侧。其有益效果在于:有利于避免废液流出壳体。
可选的,所述废液处理装置还包括漏液收集件,所述漏液收集件设置于所述壳体底部。其有益效果在于:有利于收集溅出沉积容器的废液。
本发明提供的涂胶显影设备,具有所述废液处理装置。
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